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番木瓜性别差异分化和CpSVP基因分析

番木瓜性别差异分化和CpSVP基因分析

作者：师云云福建农林大学

学位级别：硕士

番木瓜是一种常见的热带水果,番木瓜树是具有三种性别分化的被子植物。由于性染色是新生起源的染色体,所以也是研究性染色体进化的模式植物。番木瓜的性别决定是XY性染色体系统:XX染色体型植株为雌株,XY染色体型植株是雄株,XYh染色体型... 详细信息

番木瓜是一种常见的热带水果,番木瓜树是具有三种性别分化的被子植物。由于性染色是新生起源的染色体,所以也是研究性染色体进化的模式植物。番木瓜的性别决定是XY性染色体系统:XX染色体型植株为雌株,XY染色体型植株是雄株,XYh染色体型植株是两性植株。番木瓜X染色体和Y染色体(或Yh染色体)序列相似度为85%左右,而Y和Yh染色体相似度为99.6%。番木瓜SVP基因在X染色体上缺失,CpSVPY基因和CpSVPYh基因结构不同,是唯一验证筛选到的Y和Yh染色体上表达差异的基因。前期的研究推测番木瓜性染色体(Y/Yh染色体)特异的CpSVP基因是导致番木瓜不同性别植株之间表型差异分化的候选功能基因之一。本研究主要分为两个部分:番木瓜三种性别差异分化的观察总结和番木瓜CpSVP基因分析以及转化试验。目的是探索番木瓜性别差异分化和CpSVP基因之间的关系。得到的主要研究结果如下:1.根据花发育过程中标志性结构的变化将番木瓜雄花的发育过程划分为十个时期,雌花的发育过程划分为六个时期,两性花的发育过程划分为十个时期,为番木瓜性别分化的分子机制研究提供形态学依据。2.验证了番木瓜CpSVP基因有两个拷贝、三种表达形式:常染色体上的CpSVP基因(CpSVPA基因)、性染色体上的一对等位基因即Y染色体上的CpSVP基因(CpSVPY基因)和Yh染色体上的SVP基因(CpSVPYh基因)。通过对番木瓜CpSVP基因的结构进行比较发现,CpSVPYh基因相比CpSVPY基因缺失了一个MADS结构域,CpSVPA基因和CpSVPY基因的序列相似度为94%,可能会有功能冗余。番木瓜的CpSVP基因在番木瓜各个组织中的表达情况分析得出:番木瓜CpSVPY基因在不同大小花中持续地高表达,在叶片中低表达;而CpSVPYh基因在花中低表达,在叶片中高表达;两者表达模式相反。CpSVPY基因在雄蕊发育成熟期表达量逐渐升高,尤其在花粉中显著表达。3.在拟南芥中过表达CpSVPY基因,转基因植株中未出现广泛报道的异源基因过表达的变异表型,如抑制开花或花轮结构变异等。同时也开展了农杆菌介导的番木瓜愈伤组织转化方法的探索。表明经过农杆菌处理后愈伤组织的存活率和抗性筛选后愈伤组织的分化效率是番木瓜愈伤组织农杆菌转化试验的关键。番木瓜三种性别植株中,性别差异分化最为显著的两个特征:不同性别花的结构差异和伴雄性长花柄稳定遗传的表型特征。这两个特征都会对实际种植产业的劳动方式带来便利。大量的测序数据已经对番木瓜性染色体特异区的基因进行了多角度的比对分析。因此,针对候选基因进行进一步分析和生物学功能验证是番木瓜性别决定研究中必要的实践内容。

关键词：番木瓜花发育时期划分性别分化 SVP基因

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多波段全介质高反射薄膜的设计与制备

多波段全介质高反射薄膜的设计与制备

作者：师云云西安工业大学

学位级别：硕士

目前,工作于单波段的光电器件已经越来越难以应对现代仪器高速发展带来的严峻挑战,随之兴起的多波段光电器件,具备较强的角分辨能力与能量收集能力,能够集多功能一体化,满足各波段的不同使用需求。本文主要从多波段高反膜的光谱性能、... 详细信息

目前,工作于单波段的光电器件已经越来越难以应对现代仪器高速发展带来的严峻挑战,随之兴起的多波段光电器件,具备较强的角分辨能力与能量收集能力,能够集多功能一体化,满足各波段的不同使用需求。本文主要从多波段高反膜的光谱性能、激光防护性能以及大口径薄膜的应力分布三方面入手,对多层膜体系的热应力进行建模与深入研究,继而开展三波段兼容多层膜的设计与制备工作,推进大口径基底上膜层的应力与损伤性能研究。借鉴双层复合梁理论,建立了圆形基底上双层、多层光学介质膜的热应力模型。通过力平衡和弯矩平衡等边界条件分析等效膜基系统中的应力应变分布,建立了等效膜层和基底的热应力理论关系。推导的公式不仅在分析双层膜系统应力应变方面是行之有效的,对于预测周期弹性多层膜中的热应力分布同样适用。结合实际轮廓仪测量基底在沉积HfO/SiO双层膜、多层膜前后的曲率半径,得到膜层的残余应力分别为-52.59MPa和-101.65MPa,理论推导的热应力公式计算得到双层、多层膜的热应力分别为-79.33MPa和-78.46MPa,高温下制备的薄膜在生长过程中,缺陷密度小,本征应力较低,验证了膜基模型的有效性。在G/(HL)H/A膜系结构的基础上,高低折射率材料选取TiO-SiO,在Φ30mm的K9基底上进行基础实验研究。500nm～650nm、808nm、1064±40nm范围分别采用中心波长530nm、575nm 以及 1064nm,按照膜系 G/(HL)8H/A、G/(1.5H1.5L)4H/A、G/(HL)8H/A 进行高反膜的镀制。三波段膜层的残余应力数值分别为-31.52MPa、-37.10MPa、-94.44MPa,状态均表现为压应力状态。TiO/SiO、HfO/SiO、LaTiO/SiO三种材料组合下1064nm高反膜的抗激光损伤阈值分别为2.9J/cm2、3.5J/cm2、2.2J/cm2。前两者薄膜样品的膜基结合力较好,LaTiO/SiO组合高反射薄膜表面起皱脱落,抗激光损伤性能较为低弱。设计并制备了三波段兼容的介质高反膜,监控波长560nm,膜系结构优化为G/(HL)H(2L)(1.4H1.4L)H2L(1.9H1.9L)1.9H/A,在不同膜堆之间添加低折射率层来抑制虚设问题,通过增加周期数改善808nm波长点处带宽小、峰值反射率低等不足。在Φ220mm的大口径基底上成功制备性能良好的宽波段大尺寸多层高反射薄膜,光谱曲线较为平滑,膜厚均匀性良好,成膜致密无起皱龟裂脱落等现象出现,膜层牢固性较高。鉴于玻璃的抗压强度要优于其抗拉强度,膜层的应力状态呈现良好的态势,表现为较小的压应力。其光谱性能在可见光500nm～650nm波段范围内,平均反射率为99.5%,峰值反射率为99.9%;778nm～838nm范围内,峰值反射率99.9%,平均反射率99.8%;1064±40nm波段范围内,其平均反射率能够达到99.7%,峰值反射率达到99.9%。

关键词：多波段高反膜热应力复合梁残余应力大口径激光损伤阈值

湖北省行政地名的语源类型与地理环境要素关系研究

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湖北省行政地名的语源类型与地理环境要素关系研究

作者：师云云山西师范大学

学位级别：硕士

地名不仅用来代表实体地理的位置,还能表现出当地的自然环境与人文环境的特征。地名作为人类对地球活动的指示标作用已经被人类所重视,因此,不仅语言学、地名学的研究者们研究地名,而且地理学的研究者们也非常重视对地名的研究。湖北省... 详细信息

地名不仅用来代表实体地理的位置,还能表现出当地的自然环境与人文环境的特征。地名作为人类对地球活动的指示标作用已经被人类所重视,因此,不仅语言学、地名学的研究者们研究地名,而且地理学的研究者们也非常重视对地名的研究。湖北省的历史文化悠久,是楚文化的发源地,所以深受楚文化的影响,而且它是三国时期重要的争夺之地,因此三国文化在湖北省烙下了深深的烙印。湖北省地形类型多样,主要以山地为主,河流与湖泊密布,被称为“千湖之省”。本文通过对湖北省的行政地名进行语源类分析,得出湖北省地名表现出来的自然和人文特征以及它们在湖北省的空间分布特征及原因。本文内容分以下几个部分:第一部分是绪论部分,介绍了研究湖北省地名的目的和意义,资料来源与研究方法,国内外的研究现状及相关理论研究。第二部分介绍了湖北省的概况,主要从湖北省的地理环境、行政区划、历史沿革、自然资源、人文环境等方面介绍了湖北的概况。第三部分是湖北省行政地名的语源类型及统计结果,本文把湖北省1846个行政地名的语源类型按自然要素类和人文要素类地名分为两大类,之后再把自然要素类行政地名分为地形、水文、植物、方位、动物、物产、气象、距离8类,主要对其中的地形、水文、植物、方位这四类进行详细研究,人文要素类行政地名细分为姓氏、建筑、交通、经济、数字、人物、人名、史事、神话、神物、军事、意愿、民族、颜色、用途、宗教、官职、朝代18类,主要对其中的姓氏、建筑、经济、交通、史事这五类进行详细研究。第四部分是湖北省行政地名与自然环境要素的关系,主要是针对自然环境要素类的地名的统计结果进行分析,得出哪些自然要素类对地名的影响大,哪些对其影响小。然后运用Arc GIS软件绘制出湖北省地名密度的空间分布图、地形和水文类地名的空间分布图,并且详细分析地名与地形和水文的关系,以便研究湖北省自然类地名的特征。第五部分是湖北省行政地名与人文环境要素的关系,主要是针对人文环境要素类的地名的统计结果进行分析,得出哪些人文要素类对地名的影响大,哪些对其影响小。然后然后运用Arc GIS软件绘制出人口和人均GPS空间分布图,并且详细分析地名与人口和经济的关系,以便研究其人文类地名的特征。第六部分是研究文章的总结及不足。

关键词：湖北省行政村名语源类型区域差异

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氟-氧化物复合薄膜的特性研究

光子学报 2020年第8期49卷 190-198页

作者：师云云徐均琪苏俊宏西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021

以SiO2、TiO2、YF3为单组分材料分别制备了SiO2/YF3、TiO2/YF3复合薄膜,探究复合后膜层的光学、力学以及抗激光损伤性能的变化情况.采用双源共蒸技术,通过控制膜料蒸发时的沉积速率制备了混合摩尔比为1∶1的两种氟氧化物复合薄膜,对复... 详细信息

以SiO2、TiO2、YF3为单组分材料分别制备了SiO2/YF3、TiO2/YF3复合薄膜,探究复合后膜层的光学、力学以及抗激光损伤性能的变化情况.采用双源共蒸技术,通过控制膜料蒸发时的沉积速率制备了混合摩尔比为1∶1的两种氟氧化物复合薄膜,对复合膜层的折射率、消光系数、透射特性、表面形貌、粗糙度进行了测量,并研究了其抗激光损伤性能.结果表明:SiO2/YF3、TiO2/YF3复合膜层的折射率分别为1.4787和1.8646(波长550 nm),介于单组分材料之间(YF3为1.4936、SiO2为1.4651、TiO2为2.0483),且均呈现正常色散分布;ZYGO干涉测量的结果显示,SiO2/YF3膜层的应力值为1.9 GPa,比单组分材料SiO2和YF3的0.4 GPa大但粗糙度小;TiO2/YF3膜层的应力值为0.8 GPa,比TiO2的3.9 GPa应力小但较YF3大,表现出较明显的应力调节效果;SiO2/YF3复合薄膜的激光损伤阈值为9.2 J/cm2,相比于单组分的SiO2提高了2.2%,较YF3提高了39.2%;TiO2/YF3的激光损伤阈值为7.8 J/cm2,相比于单组分的TiO2薄膜而言提高了85.6%,较YF3提高了17.4%.通过双源共蒸技术沉积得到的氟氧化物复合薄膜,吸收小、膜层折射率可调;SiO2/YF3、TiO2/YF3复合膜层的抗激光损伤性能均优于单组分材料;YF3的掺杂能够明显降低单一TiO2材料的应力,但SiO2/YF3的应力大于单组分的SiO2、YF3薄膜.

关键词：复合薄膜氟化物氧化物双源共蒸技术光学性能应力激光损伤阈值

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兼容电磁屏蔽红外增透薄膜器件的研究

光子学报 2020年第10期49卷 95-104页

作者：王建徐均琪苏俊宏李阳师云云西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021

利用光刻掩模和热蒸发沉积技术制备兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件,实现3~5μm波段红外信号高效增透,且能屏蔽12~18 GHz频段的电磁波信号.通过光刻掩模和真空热蒸发沉积技术在双面抛光Si基底上制备满足要求的十字交叉对称金属网栅结构,... 详细信息

利用光刻掩模和热蒸发沉积技术制备兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件,实现3~5μm波段红外信号高效增透,且能屏蔽12~18 GHz频段的电磁波信号.通过光刻掩模和真空热蒸发沉积技术在双面抛光Si基底上制备满足要求的十字交叉对称金属网栅结构,通过离子束辅助电子束热蒸发沉积技术制备3~5μm波段高效增透的红外膜.为进一步改善金属网栅的透射率,在周期g为550μm,不同线宽的金属网栅薄膜上沉积红外增透膜.结果表明:通过真空式傅里叶变换红外光谱仪测试得红外膜样片在3~5μm的峰值透射率为99.8%,平均透射率为99.3%.矢量网络分析仪测试金属网栅12~18 GHz频段的电磁屏蔽效能,得到兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件在12~18 GHz频段内总体电磁屏蔽效能优于27 dB,3~5μm红外波段的峰值透射率为86.3%,平均透射率为86.1%.金属网栅薄膜上镀制增透膜在保证电磁屏蔽效能不变(≥27 dB)的前提下,网栅光谱(透射率)提高了37.6%(网栅周期g为550μm,线宽2a为30μm).屏蔽效能的改善既可以通过调整网栅的周期和线宽,也可以选择电阻率较低的基底材料实现.

关键词：电磁屏蔽红外真空热蒸发金属网栅减反膜透射率屏蔽效能

双源共蒸技术制备MgF_2/ZnS复合薄膜的特性

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表面技术 2019年第2期48卷 82-88页

作者：徐均琪师云云李候俊苏俊宏西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021

目的以MgF_2和ZnS为单组分制备MgF_2/ZnS复合薄膜,研究复合薄膜的光学性能,以获取任意折射率薄膜材料,并优化高损伤阈值激光薄膜的制备工艺。方法基于光电极值膜厚监控原理,采用电子束热蒸发和电阻热蒸发技术制备了复合薄膜,测量了复合... 详细信息

目的以MgF_2和ZnS为单组分制备MgF_2/ZnS复合薄膜,研究复合薄膜的光学性能,以获取任意折射率薄膜材料,并优化高损伤阈值激光薄膜的制备工艺。方法基于光电极值膜厚监控原理,采用电子束热蒸发和电阻热蒸发技术制备了复合薄膜,测量了复合薄膜的折射率、消光系数和透射率光谱,并对其激光损伤特性进行了研究。结果在所研究的工艺参数范围内,当Mg F_2和ZnS的沉积速率比为5∶1、4∶1、2∶1、1∶1和0.5∶1时,所制备复合薄膜的折射率分别为1.4227、1.4932、1.6318、1.9044和2.0762(波长550 nm)。复合薄膜的折射率符合正常色散,当沉积速率选取合适,可以获得介于两种组分薄膜材料之间的任意折射率。对激光损伤性能测试的结果显示,不同沉积速率比率下制备的复合薄膜的激光损伤阈值可能介于两种单组分薄膜之间,也可能高于每种单组分薄膜的激光损伤阈值,其激光损伤阈值最高比单组分MgF_2薄膜高28.6%,比单组分ZnS薄膜高96.4%。结论采用光电极值法监控膜厚,可根据不同蒸发源的蒸发特性,获得介于单组分膜料折射率之间的任意折射率材料,双源共蒸技术获取中间折射率是可行的。采用双源共蒸技术制备的复合薄膜,可改善单组分膜层的缺陷,获得高于单组分薄膜激光损伤阈值的材料。

关键词：复合薄膜折射率消光系数激光损伤阈值热蒸发双源共蒸

多组分复合薄膜的光学、电学、机械性能及其应用

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应用光学 2020年第2期41卷 405-420页

作者：师云云徐均琪苏俊宏西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室陕西西安710021

复合薄膜因其可具有比单组份薄膜更加优异的性能而得到广泛的应用。通过以膜层的防护、催化、电学、光学以及力学性能等复合思想为切入点,阐述了通过膜层的复合掺杂旨在增强合金的抗腐蚀性,提高润滑摩擦性能,改善膜层的导电性能以及进... 详细信息

复合薄膜因其可具有比单组份薄膜更加优异的性能而得到广泛的应用。通过以膜层的防护、催化、电学、光学以及力学性能等复合思想为切入点,阐述了通过膜层的复合掺杂旨在增强合金的抗腐蚀性,提高润滑摩擦性能,改善膜层的导电性能以及进行光学薄膜折射率和光谱吸收的调控,增强膜层的硬度及拉伸强度等机械性能的方法。对国内外的相关前沿成果进行简要介绍,并对复合薄膜的未来发展进行展望,为相关领域的研究提供参考。

关键词：复合薄膜防护性能电学性能催化性能光学性能机械性能

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多波段大口径全介质高反膜的设计与制备

表面技术 2022年第4期51卷 335-341页

作者：师云云徐均琪刘政张凯锋苏俊宏袁松松刘祺西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室西安710021 西安光学精密机械研究所先进光学制造技术联合实验室西安710119 兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室兰州730000

目的研究多波段全介质高反射薄膜的光谱性能、应力特性以及膜层的抗激光损伤性能,获取应力状态良好的大口径薄膜样片。方法选用TiO_(2)、SiO_(2)高低折射率材料,设计并制备500~650 nm、780~830 nm、1050~1080 nm 3波段兼容的介质高反膜... 详细信息

目的研究多波段全介质高反射薄膜的光谱性能、应力特性以及膜层的抗激光损伤性能,获取应力状态良好的大口径薄膜样片。方法选用TiO_(2)、SiO_(2)高低折射率材料,设计并制备500~650 nm、780~830 nm、1050~1080 nm 3波段兼容的介质高反膜。研究单层膜工艺参数,监控波长为560 nm,基于电场强度分布,膜系结构优化为G/(HL)^(8) H(2L)^(4)(1.4H1.4L)^(8) H2L(1.9H1.9L)^(8)1.9 H/A。在不同膜堆之间添加低折射率层来抑制虚设问题,平滑反射光谱,通过离子束辅助电子束蒸发技术在ϕ220 mm的大口径基底上成功制备出性能良好的宽波段大尺寸多层高反射薄膜。结果其反射光谱在可见光500~650 nm波段范围内,平均反射率为99.5%,峰值反射率为99.9%,最低反射率为95.1%;在780~830 nm波段内,峰值反射率为99.9%,平均反射率为99.8%,最低反射率为99.6%;在1050~1080 nm波段内,其平均反射率能够达到99.8%,峰值反射率达到99.9%,最低反射率达到99.7%。大口径薄膜样片不同位置的反射光谱一致性较高。膜层的抗激光损伤阈值为7.1 J/cm^(2),残余应力为–293.59 MPa。结论大口径薄膜样片膜厚均匀性良好,成膜致密,无起皱、龟裂、脱落等现象出现,膜层牢固性较高,具备优良的激光防护性能。

关键词：薄膜大口径多波段残余应力激光损伤阈值

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中国动物类行政地名的统计分类及空间分布

山西师范大学学报（自然科学版） 2015年第S1期29卷 49-51页

作者：周鑫贾文毓郭艳丽师云云山西师范大学城市与环境科学学院山西临汾041000

以《中华人民共和国地名大词典》中的资料为依据,基于数理统计方法,对中国范围内的动物类行政地名进行数量统计分类.本文分析全国动物类行政地名的空间分布特征,研究发现动物类行政地名不仅能够更好地反映特定地区的自然环境,还能间接... 详细信息

以《中华人民共和国地名大词典》中的资料为依据,基于数理统计方法,对中国范围内的动物类行政地名进行数量统计分类.本文分析全国动物类行政地名的空间分布特征,研究发现动物类行政地名不仅能够更好地反映特定地区的自然环境,还能间接的指示该地区历史、经济、社会、文化、民族、经济、生活,对于指导我们分析和探究地区的地域性差异和地名的归并具有参考和文献价值.

关键词：动物类地名行政地名空间分布