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全自动荧光粉涂覆工艺及设备研究

半导体光电 2013年第1期34卷 66-68页

作者：刘杰刘键冷兴龙屈芙蓉刘俊标吴茹菲中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室北京100029 中国科学院电工研究所北京100190

自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,研究了有无真空搅拌除泡装置对荧光粉涂覆效果的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层厚度均匀性较差,且涂覆层中有明显的气泡,气泡直径可达1mm;经过真空搅拌除泡... 详细信息

自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,研究了有无真空搅拌除泡装置对荧光粉涂覆效果的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层厚度均匀性较差,且涂覆层中有明显的气泡,气泡直径可达1mm;经过真空搅拌除泡处理后涂覆层厚度均匀性好且涂覆层中无气泡。利用LED光学参数综合测试仪分析了有无真空搅拌除泡装置对LED发光特性的影响,结果发现真空搅拌除泡工艺能明显提升LED光谱色度一致性。

关键词： LED 荧光粉涂覆真空搅拌除泡装置

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全自动荧光粉涂覆工艺研究

半导体技术 2013年第4期38卷 288-291页

作者：刘杰刘键冷兴龙屈芙蓉刘俊标吴茹菲中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室北京100029 中国科学院电工研究所北京100190

自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,通过扫描电子显微镜研究真空搅拌除泡处理时间对涂覆质量的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层中有直径达140μm的气泡,且涂覆层厚度均匀性较差;经过20和40 s真... 详细信息

自行设计并搭建了一套全自动荧光粉涂覆系统。针对涂覆工艺,通过扫描电子显微镜研究真空搅拌除泡处理时间对涂覆质量的影响,结果发现未经真空搅拌除泡处理的荧光粉涂覆层中有直径达140μm的气泡,且涂覆层厚度均匀性较差;经过20和40 s真空搅拌除泡处理后涂覆层中气泡直径和数量都明显减少,涂覆层厚度均匀性也变好;经过60 s真空搅拌除泡处理后涂覆层中无明显气泡,涂覆层厚度均匀性进一步提高至1μm。分别不通过真空搅拌除泡处理和通过60 s真空搅拌除泡处理实现LED器件涂覆,通过LED器件光学参数综合测试仪测试上述两类器件的发光特性,结果发现60 s真空搅拌除泡处理能明显降低LED器件色坐标的离散性。

关键词： LED 荧光粉涂覆真空搅拌除泡涂覆层厚度均匀性 LED发光特性

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原子层沉积技术生长单质钨薄膜

半导体技术 2022年第9期47卷 699-703页

作者：王浙加冯嘉恒夏洋明帅强屈芙蓉中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心浙江嘉兴314000 嘉兴科民电子设备技术有限公司浙江嘉兴314000 中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室北京100029

采用热型原子层沉积(ALD)技术在单晶硅基底上成功制备了单质钨薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、掠入射X射线衍射仪(GIXRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、四探针测试仪对样品的生长速率、晶体结构、薄膜成分以及电阻率进行了表征和... 详细信息

采用热型原子层沉积(ALD)技术在单晶硅基底上成功制备了单质钨薄膜。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、掠入射X射线衍射仪(GIXRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、四探针测试仪对样品的生长速率、晶体结构、薄膜成分以及电阻率进行了表征和分析。结果表明,热型原子层沉积技术生长单质钨薄膜的温度窗口为200~250℃,生长的薄膜呈多晶态,由较小粒径的颗粒组成,具有(210)晶面择优取向。XPS测试表明薄膜中W 4f、W 4f及W 5p_(3/2)的特征峰分别位于31.5~31.6、33.5~33.7及36.9~37.1 eV结合能位置处,主要含有W、C、O等元素。生长的单质钨薄膜为β相钨,电阻率为1.6×10^(-4)~3.0×10^(-4)Ω·cm。

关键词：原子层沉积(ALD) 钨电阻率多晶薄膜 β相

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刘文成：守护农村孩子的“上学梦”

湖南教育(B版) 2023年第12期 20-21页

作者：刘纪新屈凌芙蓉

从1988年开始，刘文成就和乡村教育结下了不解之缘。2013年，刘文成竞聘为言栗完全小学（以下简称“言栗小学”）校长。十年时间，他让这所小学发生了翻天覆地的变化。十年之前，学校校园面积小，围墙形同虚设，社会人士可以自由进出学...

从1988年开始，刘文成就和乡村教育结下了不解之缘。2013年，刘文成竞聘为言栗完全小学（以下简称“言栗小学”）校长。十年时间，他让这所小学发生了翻天覆地的变化。十年之前，学校校园面积小，围墙形同虚设，社会人士可以自由进出学校，教学质量平平，学校负债运转艰难；现在，学校改建了围墙，新建了教学楼，音乐室、美术室、舞蹈室等功能教室一应俱全，先后被评为新邵县最美学校、湖南省温馨校园，一跃成为县里的农村窗口学校。唯一不变的，

关键词：

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晶圆黏着键合技术研究进展及其应用

晶圆黏着键合技术研究进展及其应用

2010’全国半导体器件技术研讨会

作者：罗巍屈芙蓉李超波夏洋中国科学院微电子研究所中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室

晶圆黏着键合方法优点是工艺温度低,与标准IC工艺兼容,能使键合表面平坦化,同时还能够补偿表面小直径的微粒,工艺相对简单,成本低,已逐渐成为微电子和MEMS制造中比较重要的工艺。概括论述了黏着键合技术的基本原理,阐述了黏合剂种类以... 详细信息

晶圆黏着键合方法优点是工艺温度低,与标准IC工艺兼容,能使键合表面平坦化,同时还能够补偿表面小直径的微粒,工艺相对简单,成本低,已逐渐成为微电子和MEMS制造中比较重要的工艺。概括论述了黏着键合技术的基本原理,阐述了黏合剂种类以及选择的原则,并对一些有重要影响的工艺参数结合工艺流程进行了分析,最后着重介绍了晶圆黏着键合技术在微电子和MEMS领域中的最新应用。

关键词：晶圆黏着键合聚合物黏合剂薄膜结构转移三维集成电路超薄晶圆

来源： cnki会议评论

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碳的吸附作用实验的改进

化学教学 1995年第6期 50-50页

作者：屈芙蓉河南洛阳实验中学

碳的吸附作用实验的改进河南洛阳实验中学（４７１０００）屈芙蓉在初中化学课本第二章《碳》第二节《无定形碳》中有一个演示碳的吸附作用的实验：“在盛有半瓶水的小锥形瓶里，加入互～２滴红墨水，使水略显红色；然后投入几块木炭．... 详细信息

碳的吸附作用实验的改进河南洛阳实验中学（４７１０００）屈芙蓉在初中化学课本第二章《碳》第二节《无定形碳》中有一个演示碳的吸附作用的实验：“在盛有半瓶水的小锥形瓶里，加入互～２滴红墨水，使水略显红色；然后投入几块木炭．轻轻振荡，观察水溶液的颜色变化”．...

关键词：吸附作用实验现象实验改进初中化学教学实践教学效果活性炭红墨水轻振荡过滤器

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地高辛特异性Fab治疗小儿严重洋地黄中毒

国际儿科学杂志 1993年第2期 111-111页

作者：屈芙蓉

1976年,Smith首次报告用地高辛特异性抗体抗原结合片段(Fab)治疗成人地高辛中毒取得成功。该文报告用Fab治疗小儿严重洋地黄中毒29例,系由哈佛大学医学院等医学中心在1974～1986年进行的协作研究。病例与方法患儿29例,年龄1天～18岁,平均

关键词：洋地黄中毒地高辛狄戈辛治疗后 Fab 特异性小儿

鼻饲患者两种误吸风险预测模型的外部验证及比较

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中华护理杂志 2021年第9期56卷 1352-1356页

作者：孙文静谢莉玲黄龙贤游海玲屈芙蓉左燕重庆医科大学附属第一医院护理部重庆市400016 重庆医科大学附属大学城医院眼科

目的对该研究团队前期构建的鼻饲患者误吸风险预测列线图和分类回归树开展外部验证,评估模型的临床适用性及有效性。方法采用便利抽样法,选取重庆市某三级甲等医院2019年7月—2020年7月收治的鼻饲患者作为研究对象,根据是否发生误吸分... 详细信息

目的对该研究团队前期构建的鼻饲患者误吸风险预测列线图和分类回归树开展外部验证,评估模型的临床适用性及有效性。方法采用便利抽样法,选取重庆市某三级甲等医院2019年7月—2020年7月收治的鼻饲患者作为研究对象,根据是否发生误吸分为误吸组和非误吸组,绘制受试者工作特征曲线评价两种模型的性能。结果鼻饲患者误吸风险预测列线图和分类回归树的受试者工作特征曲线下面积分别为0.91(95%CI为0.89~0.98)和0.92(95%CI为0.91~0.95),灵敏度分别为89.2%和64.9%,特异度分别为89.7%和96.6%,预测准确率分别为89.6%和89.0%。结论该研究团队前期构建的鼻饲患者误吸风险预测列线图和分类回归树均能有效预测鼻饲患者的误吸风险,分类回归树的预测性能略优于列线图。

关键词：肠道营养误吸风险管理预测模型护理