检索结果-南通市图书馆

维普期刊数据库

大断面矩形顶管减阻技术应用研究:以苏州综合管廊矩形顶管为例

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

地质科技通报 2020年第2期39卷 198-203页

作者：唐培文中铁二十局集团第一工程有限公司江苏苏州215151

以苏州城北路人民路段综合管廊矩形顶管工程为例,分析了影响矩形顶管顶进力的关键因素,提出了管节配重、管节涂蜡和管节注浆等综合减阻方法以降低管壁摩阻力。在管节内放置重物平衡管节所受周围泥浆的浮力;通过涂蜡和喷蜡使管壁光滑,降... 详细信息

以苏州城北路人民路段综合管廊矩形顶管工程为例,分析了影响矩形顶管顶进力的关键因素,提出了管节配重、管节涂蜡和管节注浆等综合减阻方法以降低管壁摩阻力。在管节内放置重物平衡管节所受周围泥浆的浮力;通过涂蜡和喷蜡使管壁光滑,降低管壁与周围介质的摩擦系数;选择合适的材料和配比配制适合地层的泥浆,调整注浆量和注浆压力,使管节周围形成完好的泥浆套。基于实测顶进力与理论计算值的对比分析表明,管壁单位面积摩阻力降低了40%左右,证实该综合减阻方法解决了人民路段矩形顶管顶进力过大的问题。

关键词：矩形顶管侧摩阻力顶进力减阻技术注浆

维普期刊数据库

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

矩形顶管近接上穿施工对地铁隧道影响研究

地下空间与工程学报 2020年第S1期16卷 215-223,284页

作者：唐培文中铁二十局集团第一工程有限公司江苏苏州215151

依托苏州人民路矩形顶管工程,对矩形顶管施工引起临近地铁隧道变形原因进行了分析,从土体扰动规律及地铁隧道变形机理方面进行了论述,提出了地层损失是地铁隧道不均匀变形的主要原因;依据现有监测方案及监测数据,发现矩形顶管顶进过程中... 详细信息

依托苏州人民路矩形顶管工程,对矩形顶管施工引起临近地铁隧道变形原因进行了分析,从土体扰动规律及地铁隧道变形机理方面进行了论述,提出了地层损失是地铁隧道不均匀变形的主要原因;依据现有监测方案及监测数据,发现矩形顶管顶进过程中,地铁隧道最大变形区域位于顶管轴线正下方,且离轴线越远其变形越小,拱顶、道床表现为隆起状态,拱腰向始发井方向偏移;利用ABAQUS有限元分析软件,对顶管上穿地铁隧道施工过程进行模拟,发现模拟结果基本符合现场实测结果,验证了现场实测的合理性和所选模型的可靠性。

关键词：矩形顶管变形机理地铁隧道变形规律模拟结果

维普期刊数据库

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

空间直线和平面

数学通讯 2004年第Z2期 47-51页

作者：唐培文南宁市六中广西南宁530021

1本单元知识网络2本单元重点、难点、热点分析本单元的重点:平面的基本性质,空间直线的位置关系,直线和平面之间平行和垂直的判定和性质.掌握好上述内容,就抓住了立体几何中最根本的内容,其它的部分就容易学了.

关键词：四边形异面直线直角三角形 ACB 直角梯形逆定理余弦定理空间直线

模糊神经网络PID控制器在常减压仿真模型中的应用

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

模糊神经网络PID控制器在常减压仿真模型中的应用

作者：唐培文北京石油化工学院

学位级别：硕士

石油炼化的产品种类丰富,广泛应用于各个领域,中国作为全球制造业的“领头羊”,所需石油化工产品量巨大,因此提高石油炼化行业的生产效率势在必行。常减压蒸馏过程作为石油炼化的首道工序,原油由此分离为多种产品油及下游产线的原料。... 详细信息

石油炼化的产品种类丰富,广泛应用于各个领域,中国作为全球制造业的“领头羊”,所需石油化工产品量巨大,因此提高石油炼化行业的生产效率势在必行。常减压蒸馏过程作为石油炼化的首道工序,原油由此分离为多种产品油及下游产线的原料。常减压装置的流程相对复杂、内部变量间的关联性较强,作为被控对象具有严重的滞后性和强非线性。传统PID控制方法在该过程控制中应用时受到较大限制,为了提升其控制效果,将智能控制方法与PID控制相结合,并利用流程模拟技术对常减压装置进行建模,以搭建动态仿真平台,验证控制器效果。首先,本文以某厂常减压装置作为研究对象,根据进料原油的基础数据和装置的工艺要求,借助流程模拟软件Aspen Plus对常减压进行稳态建模,调试收敛后的模拟数据在合理的误差范围内。然后,以稳态模拟结果作为基础,补充数据进行动态转换,依靠Aspen Plus Dynamics软件对常减压蒸馏动态模拟,导出动态运行数据,对主要变量进行分析,设计常减压流程的控制回路。借助Simulink的AM Simulation模块对Aspen Plus Dynamics已建动态模型进行调用,用以建立联合仿真。最后,对模糊神经PID算法控制器进行设计,借助MATLAB强大的运算能力,通过联合仿真对常减压装置的主要回路进行控制实验,对比常规PID算法与模糊PID算法。实验分析得出模糊神经PID相较于传统PID算法的动态性能更强、鲁棒性更优。本文针对常减压复杂过程的建模难题,通过流程模拟搭建的联合仿真平台,与实际生产模型贴合程度更高,控制器的改进对于实际常减压装置的控制器设计具有一定的参考价值。

关键词：流程模拟常减压装置动态建模模糊神经网络模糊神经PID控制器

扫描电化学显微镜结合有限元法耦合基底边缘电流的应用及HER成像探索

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

扫描电化学显微镜结合有限元法耦合基底边缘电流的应用及HER成像...

作者：唐培文宁夏大学

学位级别：硕士

扫描电化学显微镜(Scanning Electrochemical Microscope,SECM)是一种具有高分辨率的电分析技术,它能对基底形貌成像,探测基底局部反应性。SECM使用超微电极(Ultramicroelectrode,UME)扫描基底,记录基底的电流响应,此响应取决于基底的... 详细信息

扫描电化学显微镜(Scanning Electrochemical Microscope,SECM)是一种具有高分辨率的电分析技术,它能对基底形貌成像,探测基底局部反应性。SECM使用超微电极(Ultramicroelectrode,UME)扫描基底,记录基底的电流响应,此响应取决于基底的表面形貌和电化学活性。SECM拥有多种工作模式,能检测各种复杂基底,在实验中系统的表征基底的电化学信息。在本文中,我们将在绪论部分介绍SECM的产生背景与意义,SECM的基本原理,包括所需的仪器和最常用的工作模式,以及SECM的各领域应用。在对SECM有了基本了解之后,聚焦本工作需解决的主要问题,介绍以SECM为代表的显微探针技术的图像成像中存在的边缘效应及失真问题。SECM扫描、成像电流受探针和基底的扩散场影响具有边缘效应,成像更易受失真影响,导致SECM成像时边界不明确。所以探索SECM边缘效应的形成机理,找到成像基底的真实边界,原位探究基底边缘区域的理化性质,还原基底真实边缘形貌等具有重要意义。本文针对定位基底边缘,探索SECM的应用。(1)构建了模拟推算、公式总结、实验验证的方法论,根据经验公式能够定位基底边缘。针对铂基底的边缘,有限元模拟和实验同时进行逼近曲线实验,对比确保有限元耦合基底电流的准确度,模拟基底不同标准反应速率常数k0下的逼近曲线,用公式总结了逼近曲线在不同k0和归一化距离L下的反馈电流,即iT=f(k0,L)。并通过实验验证该公式计算的电流的准确度。具体验证方法是:将公式计算出的反馈电流值与模拟的原始数据进行对比,对产生的残差进行评估,发现两个经验公式残差最大分别是2.76%和3.10%,大部分数据残差是1.0%,该数据说明推出的经验公式计算值是与原始模拟数据吻合的。探针经过铂基底中心上方不同高度得到探针扫描曲线(PSC),计算对应的基底长度。计算得到相应的基底长度在53.4μm和54.8 μm之间,和基底的真实长度54.0 μm非常接近,证明了经验公式还原基底尺寸的准确性。(2)拓展了拟合公式的应用范围,以复杂的金基底验证经验公式的准确度。耦合施加基底偏压下铂基底中心和边缘的逼近曲线,模拟出基底边缘施加不同偏压下的反馈电流,得到公式iT=f(E,L)。甲醇二茂铁溶液在基底偏压0.35V(***/AgCl)达到了极限扩散条件,因此耦合基底偏压在0.1 V和0.35 V(***/AgCl)之间边缘反馈电流的变化。通过做经过铂基底中心上方的探针扫描曲线来计算对应的基底长度,各基底偏压下还原的基底长度在52.3 μm和55.4μm之间,与基底真实长度54μm十分接近,证明通过经验公式找到了真实的基底边缘电流,验证了模拟推算、公式总结、实验验证的方法论。对边缘轮廓复杂的金基底图案进行SECM电化学成像,用公式对其电化学成像图案进行还原,基底图案还原长度差能控制在2.57 μm内,验证了经验公式的准确性。(3)结合SECM技术探索了铂系基底的电化学析氢反应(HER)性能。以电子束蒸镀和光刻等精密仪器加工而成的二维材料满足多次实验的条件,SECM探针和铂基底进行了多次CV测试,根据CV的电位变化区间选取探针和基底的成像电位。通过对比FcMeOH溶液中SECM电化学成像,来分析不同铂基底偏压下HER电流和成像特点。选取基底偏压为-0.2 V、-0.4 V、-0.6 V、-0.8 V、-1.0 V、-1.2 V、-1.4 V、-1.6 V、-1.8 V(***/AgCl)电化学成像,随着基底偏压负移至-1.8 V(***/AgCl),探针检测到基底的HER性能越来越强。对在此电位区间基底成像时HER形貌的变化进行了扩散层机理解释,阐述了产生/收集模式和氧化还原竞争模式对成像的影响。对PtS2二维基底在H2SO4溶液中进行了不同基底偏压下的SECM电化学成像,筛选了成像的优势基底偏压,并测试了其63分钟的析氢稳定性。随着基底偏压负移至-1.8 V(***/AgCl),探针检测到的反馈电流越来越大,基底的HER性能越来越强。由于探针电极的影响,PtS2的反馈电流随着时间推移逐渐衰减。但相比常规的活性基底稳定性测试,SECM能定点对比活性,成像活性区域与非活性区域对比鲜明,且电流衰减程度远比传统的大电极小,是一种检测活性基底稳定性的好方法。

关键词：扫描电化学显微镜基底边缘边缘耦合逼近曲线