检索结果-南通市图书馆

云南化工 2023年第1期50卷 122-124页

作者：袁川江周万礼乔云云南通威高纯晶硅有限公司云南保山678000 云南能投化工有限责任公司云南昆明650000

多晶硅生产中,还原转化效率一般为13%左右,因此大量的尾气需要回收利用才能获得较好的经济效益与环境效益。介绍了一种多晶硅生产中各类尾气分置回收工艺流程,在节能的同时确保了产品质量要求,尤其对于电子级多晶硅的生产具有重要意义。

关键词：多晶硅尾气分置回收应用

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阵列读出电路高PSR模拟前端设计

阵列读出电路高PSR模拟前端设计

作者：周万礼电子科技大学

学位级别：硕士

激光三维成像技术目前已广泛应用于地形测绘、构建虚拟环境、城市建模、军事侦察等领域。车载三维激光成像雷达是ADAS的核心部件,可实现远距离测距、自动导航和无人驾驶等功能。雪崩光电二极管(Avalanche Photodiode,APD)阵列探测器属... 详细信息

激光三维成像技术目前已广泛应用于地形测绘、构建虚拟环境、城市建模、军事侦察等领域。车载三维激光成像雷达是ADAS的核心部件,可实现远距离测距、自动导航和无人驾驶等功能。雪崩光电二极管(Avalanche Photodiode,APD)阵列探测器属于激光雷达的关键器件,通常由APD阵列和相应的读出电路(Readout IC)组成。随着应用需求的提升,阵列规模逐渐变大,对微弱信号检测能力的要求也越来越高,大规模阵列系统的功耗、面积、隔离度等问题也越来越突出。为了配合高性能APD的使用,阵列读出电路的设计面临的挑战日益增大。本文首先介绍了激光三维成像的工作原理以及不同的三维成像技术方案、雪崩光电二极管和阵列读出电路的基础理论。随后介绍了阵列读出电路的设计,针对出现的阵列间串扰的问题进行了分析,设计了电源抑制比增强电路以改善阵列读出电路的隔离度。带电源抑制比增强电路的跨阻放大器在低频时候增益为-42dB,带宽范围内最高增益为-7dB,明显改善了跨阻放大器的电源抑制比性能。随后,由于电容反馈型跨阻放大器的电源抑制比性能在低频时候优于电阻反馈型跨阻放大器,设计了一款适用于阵列的电容反馈型跨阻放大器,并对其进行流片验证,测得带宽为89.35MHz。此外,针对于大光敏面APD线性阵列的模拟前端读出电路系统,采用无源反馈补偿以及有源前馈补偿分别引入零点的结构实现了高增益、高带宽跨阻放大器的设计,并进行流片验证。仿真结果表明所设计的跨阻放大器跨阻增益为104.7dBΩ,带宽为198.8MHz,等效输入噪声电流为3.65 pA/Hz,低频电源抑制比为-57.8dB,全带宽范围内电源抑制比低于-10.6dB。最后,针对四象限探测器的模拟前端读出电路系统,采用了跨阻放大器级联比例放大器的结构实现了高增益前置放大器的设计,并进行流片验证。

关键词： APD 模拟前端跨阻放大器电容反馈型跨阻放大器电源抑制比

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二甲基二氯硅烷中杂质来源及控制对策

云南化工 2022年第4期49卷 139-142页

作者：周万礼李加旺赵生艳陈磊云南能投化工有限责任公司云南昆明650031 云南能投硅材科技发展有限公司云南曲靖655000 昆明云能化工有限公司云南昆明650300

采用直接法生产的甲基氯硅烷产品逾40多种。其中,一甲基三氯硅烷、乙基氢氯硅烷、少量烯烃等杂质,因沸点与二甲基二氯硅烷相近,易随二甲基二氯硅烷带入产品,严重影响了下游110胶、107胶等产品的质量。通过分析,在二甲基二氯硅烷精馏中,... 详细信息

采用直接法生产的甲基氯硅烷产品逾40多种。其中,一甲基三氯硅烷、乙基氢氯硅烷、少量烯烃等杂质,因沸点与二甲基二氯硅烷相近,易随二甲基二氯硅烷带入产品,严重影响了下游110胶、107胶等产品的质量。通过分析,在二甲基二氯硅烷精馏中,可采用活性炭吸附、反应精馏除杂等措施,进行除杂,同时可在二甲基二氯硅烷水解物和DMC中进行补救性除杂。

关键词：二甲基二氯硅烷杂质来源控制对策

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有机硅生产中副产盐酸的特点及脱吸工艺选择

云南化工 2022年第3期49卷 78-80页

作者：杜树忠张兵周万礼李加旺云南能投化工有限责任公司云南昆明650000 云南能投硅材科技发展有限公司云南曲靖655000

有机硅甲基氯硅烷生产中副产的盐酸成分复杂,质量分数在15%~31%,脱吸处理难度大。采用一步氯化钙法进行盐酸脱吸,同时对不同来源的盐酸进行预处理、分质储存和分质处理,能够实现副产盐酸的深度脱吸,实现氯资源的有效回收利用。

关键词：有机硅副产盐酸脱吸工艺

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多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺

云南化工 2013年第5期40卷 77-79页

作者：周万礼昆明冶研新材料股份有限公司云南曲靖655011

多晶硅产品质量要求较高,在生产中还原炉每运行一个周期,其内表面都会残留有Si等污垢。经分析研究可采用氢氧化钠溶液作为清洗液,并根据残留物分布情况对还原炉基盘和钟罩分别采用特定的清理工艺进行处理,能够满足高纯多晶硅生产洁净要求。

关键词：还原炉残留物清理工艺多晶硅

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有机硅单体合成过程的影响因素

云南化工 2022年第2期49卷 12-14页

作者：肖湘胡明实杜树忠周万礼王志一何云飞云南能投化工有限责任公司云南昆明650093 云南能投硅材科技发展有限公司云南曲靖650000 云南省能源投资集团有限公司云南昆明650093

有机硅产业链的前端材料为有机硅单体。在原材料方面,氯甲烷及工业硅的品质对单体的合成有显著的影响,而操作条件主要体现为催化剂种类及结构、反应温度、操作压力等。综述了生产实践过程中有机硅单体合成的影响因素,结果显示,氯甲烷的... 详细信息

有机硅产业链的前端材料为有机硅单体。在原材料方面,氯甲烷及工业硅的品质对单体的合成有显著的影响,而操作条件主要体现为催化剂种类及结构、反应温度、操作压力等。综述了生产实践过程中有机硅单体合成的影响因素,结果显示,氯甲烷的含水率、工业硅的杂质种类、粒径大小、杂质物相等都对单体的合成具有显著影响;在操作条件方面,进气速率与工业硅粒径需要达到一定的契合,反应温度及压力需要保持恒定,从而避免反应体系波动导致不利影响。

关键词：有机硅单体合成原料操作条件

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多晶硅还原炉冷却水再利用技术

云南化工 2014年第1期41卷 53-55页

作者：尹玉晶周万礼昆明冶研新材料股份有限公司云南曲靖655011

提出一种将多晶硅还原炉高温冷却水用于溴化锂机组驱动热源的余热回收利用方案,能够有效的将冷却水余热进行利用,可适当降低多晶硅生产成本。

关键词：高温冷却水溴化锂机组多晶硅还原炉

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多晶硅生产中以四氯化硅补氯方式探讨

云南科技管理 2021年第4期34卷 62-64页

作者：杜树忠周万礼刘自松云南能投化工有限责任公司云南昆明650000 云南能投硅材科技发展有限公司云南曲靖655000

多晶硅生产中原料和产品本身不含氯,但因过程有氯化工艺需要消耗氯,目前补氯方式主要有以液氯和三氯氢硅方式,在当地具有丰富副产四氯化硅的情况下,采用四氯化硅补氯具有较好的经济效益。

关键词：多晶硅生产四氯化硅补氯探讨

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一种用于激光脉冲测距的恒比定时电路

微电子学 2019年第6期49卷 812-816页

作者：路统霄张有润章玉飞甄少伟周万礼张波电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室

在激光雷达接收电路中,采用固定阈值比较器得到激光脉冲返回时间时,不同峰值回波信号会产生时间漂移。在传统恒比定时(CFD)电路的基础上,提出了一种窄脉冲延时电路,以替代传统RC延时结构。引入了右半平面零点,在保持增益基本不变的情况... 详细信息

在激光雷达接收电路中,采用固定阈值比较器得到激光脉冲返回时间时,不同峰值回波信号会产生时间漂移。在传统恒比定时(CFD)电路的基础上,提出了一种窄脉冲延时电路,以替代传统RC延时结构。引入了右半平面零点,在保持增益基本不变的情况下产生相位滞后,保证信号波形不变,从而降低时间漂移效应。该CFD电路基于0.18μm CMOS工艺进行设计。仿真结果表明,在窄脉冲输入信号的上升和下降时间均为3 ns、总脉宽为16 ns时,输出信号的延时为2.05 ns。输入信号幅值范围为100~300 mV时,该CFD电路的输出上升沿翻转时间的漂移误差仅为73.6 ps。

关键词：恒比定时延时电路飞行时间时间漂移

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有机硅甲基单体合成用催化体系的研究进展

有机硅材料 2022年第2期36卷 56-65,76页

作者：邢爱民胡明实杜树忠李加旺周万礼刘士诚马文会杨玺何云飞云南能投化工有限责任公司昆明650093 云南能投硅材科技发展有限公司云南曲靖650000 云南省能源研究院有限公司昆明650000 昆明理工大学真空冶金国家工程实验室昆明650000 云南省能源投资集团有限公司昆明650093

有机硅甲基单体合成过程中,催化体系起到至关重要的作用。简述了直接法使用催化剂的研究历程,为获得高效催化体系所做的一系列催化剂及助剂开发和改进尝试。研究证明,铜系列催化体系是性价比最高的催化体系。铜粉作为催化剂的使用方法... 详细信息

有机硅甲基单体合成过程中,催化体系起到至关重要的作用。简述了直接法使用催化剂的研究历程,为获得高效催化体系所做的一系列催化剂及助剂开发和改进尝试。研究证明,铜系列催化体系是性价比最高的催化体系。铜粉作为催化剂的使用方法非常简单:将铜粉/硅粉及助催化剂混匀后进行加热,硅粉便与氯甲烷反应生成甲基氯硅烷,但催化效果并不理想。随着科研人员对催化剂体系研究的不断深入,开发了大量助催化剂,与此同时对催化剂微观结构的研究也进一步深入,呈现出精细化、微观化的研究趋势。

关键词：有机硅催化剂体系微观结构