检索结果-南通市图书馆

纳米级超精密平面抛光机工件微量去除的控制方法

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机械工程师 2003年第9期 44-46页

作者：常敏袁巨龙吕冰海赵文宏潘峰浙江工业大学机电学院浙江杭州310014

研制了一种采用专家数据库智能控制系统的纳米级超精密平面抛光机,对几种功能陶瓷进行了平面抛光实验,并分析了修整环型抛光机抛光过程中工件材料的去除函数,即材料总去除量与抛光盘转数(抛光路径长度)之间的关系。

关键词：超精密抛光材料去除抛光路径长度控制方法

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全自动公、英制卷尺印刷机的设计

轻工机械 2007年第2期25卷 113-115页

作者：邢彤吕冰海文东辉浙江工业大学教育科学与技术学院浙江杭州310014

介绍了一种PVC卷尺印刷机的工作原理、总体设计及结构设计。该印刷机采用凹刻印轮印刷,能顺序完成公、英制刻度及公、英制标记双面印刷,适应于小于100 m的多种规格卷尺。该印刷机结构新颖,印刷质量好。

关键词： PVC卷尺印刷机原理结构

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蓝宝石基片干式化学机械抛光的研究

航空精密制造技术 2013年第1期49卷 7-10页

作者：雷阳周兆忠吕冰海孔涛袁巨龙浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部/浙江省重点实验室杭州310014 衢州学院机械工程学院衢州324000

针对蓝宝石传统湿式游离磨粒抛光材料去除率低的问题,本文提出了基于蓝宝石与SiO2磨料固相反应的干式化学机械抛光。通过实验分析了蓝宝石干式抛光工艺参数对抛光结果的影响。在此基础上,采用较优加工参数对蓝宝石基片工件进行了抛光实... 详细信息

针对蓝宝石传统湿式游离磨粒抛光材料去除率低的问题,本文提出了基于蓝宝石与SiO2磨料固相反应的干式化学机械抛光。通过实验分析了蓝宝石干式抛光工艺参数对抛光结果的影响。在此基础上,采用较优加工参数对蓝宝石基片工件进行了抛光实验。结果表明,采用聚氨酯抛光垫、粒径为200nmSiO2磨料,转速50r/min和压力33.2kPa时,粗抛光后的蓝宝石基片Ra为6.0nm,去除速度为5.3mg/h,是相同条件下湿式抛光去除速度(2.4mg/h)的2倍以上。

关键词：蓝宝石去除率干式CMP 固相反应工艺参数

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高效磨削技术与装备进展及展望

航空制造技术 2010年第5期53卷 66-70页

作者：袁巨龙邓朝晖熊万里吕冰海湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心

高效磨削加工的主要目的就是提高生产效率和加工质量,降低成本,其应用将产生巨大的经济效益和社会效益。随着我国航空航天工业、汽车工业、冶金、机械及国防工业等行业的进一步发展,高效磨削技术及装备的市场愈来愈大,其经济效益和社会... 详细信息

高效磨削加工的主要目的就是提高生产效率和加工质量,降低成本,其应用将产生巨大的经济效益和社会效益。随着我国航空航天工业、汽车工业、冶金、机械及国防工业等行业的进一步发展,高效磨削技术及装备的市场愈来愈大,其经济效益和社会效应也十分巨大。

关键词：磨削技术装备展望航空航天工业经济效益加工质量生产效率磨削加工

基于螺旋沟槽加工的高精度球体材料去除工艺参数试验研究

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机电工程 2018年第10期35卷 1058-1062页

作者：郭伟刚袁巨龙项震吕冰海赵萍周芬芬浙江工业大学超精密加工研究中心浙江杭州310014 杭州职业技术学院友嘉机电学院浙江杭州310018

针对传统球体同心圆加工时自转角恒定不变,无法实现均匀全包络加工,以及高精度球体材料去除的工艺参数等问题,将螺旋式沟槽研磨方法应用到了高精度球体加工中,实现了自转角不断发生变化,在单个加工周期内实现了研磨轨迹在球体表面均匀... 详细信息

针对传统球体同心圆加工时自转角恒定不变,无法实现均匀全包络加工,以及高精度球体材料去除的工艺参数等问题,将螺旋式沟槽研磨方法应用到了高精度球体加工中,实现了自转角不断发生变化,在单个加工周期内实现了研磨轨迹在球体表面均匀全包络;开展了不同直径多球体系下球坯受载规律分析,建立了不同直径球坯的受力模型,研究了球体直径大小对研磨载荷分布的影响作用,提出了数值解析的方法来描述研磨过程中球体直径的一致化,进行了压力和转速与材料去除量关系的单因素试验。结果表明:实际加工球坯时存在临界转速以及较小载荷具有优秀的尺寸选择性,在粗加工阶段采用较大的加工载荷可以达到提高材料去除率的目的,而在精加工阶段采用较小的载荷可以达到最优精度。

关键词：螺旋沟槽材料去除尺寸选择性磨损

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CMP抛光液流场数值仿真

中国机械工程 2009年第10期20卷 1207-1212页

作者：周兆忠楼飞燕吕冰海袁巨龙浙江工业大学浙西分校衢州324000 浙江工业大学杭州310014 湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心长沙410082

建立了一种基于流体动力学的化学机械抛光模型,利用流体动力学方法推导了抛光液流场的雷诺方程,并通过计算机求解偏微分方程,对抛光过程中晶片和抛光垫之间的抛光液液体薄膜厚度以及液体薄膜压力分布进行了仿真计算。分析了液膜厚度、... 详细信息

建立了一种基于流体动力学的化学机械抛光模型,利用流体动力学方法推导了抛光液流场的雷诺方程,并通过计算机求解偏微分方程,对抛光过程中晶片和抛光垫之间的抛光液液体薄膜厚度以及液体薄膜压力分布进行了仿真计算。分析了液膜厚度、晶片倾斜角和液膜负荷力、液膜压力力矩的关系,讨论了抛光载荷、抛光转速对最小液膜厚度、晶片倾斜角以及液膜压力分布的影响。结果表明,不同抛光速度和抛光载荷下,抛光液膜厚度、液膜压力和晶片倾斜角呈现不同的分布规律。比较仿真和实验中抛光输入参数对晶片下液膜厚度的影响曲线发现,仿真结果与实验结果的变化趋势一致,证明建立的抛光液液膜厚度及液膜压力分布模型的有效性。

关键词：化学机械抛光抛光液膜流场数值模拟

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精密球新型研磨方式的仿真研究

航空精密制造技术 2005年第3期41卷 9-12页

作者：赵萍邓乾发王志伟吕冰海袁巨龙浙江工业大学精密工程研究室杭州310014

在精密球偏心V形槽研磨方式的基础上,提出一种新的研磨方式。运动分析结果表明,与偏心V形槽和传统V形槽研磨方式不同,该研磨方式下球坯的自转轴能够在180°范围内摆动,使研磨轨迹在球坯表面的分布更为均匀。通过仿真计算发现,在该研磨... 详细信息

在精密球偏心V形槽研磨方式的基础上,提出一种新的研磨方式。运动分析结果表明,与偏心V形槽和传统V形槽研磨方式不同,该研磨方式下球坯的自转轴能够在180°范围内摆动,使研磨轨迹在球坯表面的分布更为均匀。通过仿真计算发现,在该研磨方式下偏心距对球坯表面研磨均匀性影响较小,并且,各槽内球坯所受研磨均匀性相同。

关键词：精密球研磨均匀性研磨方式运动分析

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金属结合剂砂轮的研究与发展

航空精密制造技术 2010年第4期46卷 38-41页

作者：范红伟袁巨龙吕冰海邓乾发浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室杭州310014 湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心长沙410082

介绍了近年来有关金属结合剂砂轮的国内外研究进展,重点是金属结合剂砂轮的修整技术,也对金属结合剂砂轮的发展提出了看法。

关键词：砂轮金属结合剂制造修整发展

介电泳效应平面抛光的电极同层布置方式数值仿真与实验

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中国机械工程 2022年第15期33卷 1772-1779,1793页

作者：邓乾发程军吕冰海袁巨龙王旭岑凯迪浙江工业大学超精密加工研究中心杭州310023 浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室杭州310023

针对化学机械平面抛光(CMPP)过程中,抛光液受抛光盘旋转离心力作用,抛光液有效利用率低、在抛光盘表面分布不均,从而影响平面抛光效率和质量的问题,提出了一种电极同层布置方式的介电泳平面抛光方法(SLAE-DEPP)。采用COMSOL Multiphysic... 详细信息

针对化学机械平面抛光(CMPP)过程中,抛光液受抛光盘旋转离心力作用,抛光液有效利用率低、在抛光盘表面分布不均,从而影响平面抛光效率和质量的问题,提出了一种电极同层布置方式的介电泳平面抛光方法(SLAE-DEPP)。采用COMSOL Multiphysics对电极同层布置方式下封闭式圆环电极和非封闭式圆环电极的电势变化和电场强度平方梯度变化进行仿真,仿真结果表明,非封闭式圆环电极方式的电场强度平方梯度在半径ρ方向和角度θ方向都存在变化,在开口处最大电场强度平方梯度变化约为封闭式电极方式电场强度平方梯度变化的1.5倍。采用非封闭圆环电极同层布置方式制作抛光盘,搭建实验平台进行抛光实验,实验结果表明,与传统CMPP抛光相比,SLAE-DEPP方式抛光直径为76.2 mm硅片,抛光6 h后,工件中心处表面粗糙度Ra从初始690 nm下降到1 nm以下,工件平面度(RMS值)为0.268μm,工件材料去除率(MRR)提高了近27.3%,工件表面去除均匀达到镜面,抛光效率和抛光质量均优于传统CMPP方式。

关键词：介电泳效应平面抛光电极同层布置均匀性