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检索条件"作者=华庆恒"
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MOS结构深能级瞬态谱的测试与分析
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固体电子学研究与进展 1992年 第2期12卷 152-156页
作者: 陈诺夫 张若愚 华庆恒 河北工学院电气工程系 天津300130 天津电子材料研究所 300220
叙述了一种采用MOS结构研究半导体深能级陷阱的深能级瞬态谱(DLTS)测试与分析方法。该方法简便易行,适用范围广。通过对n-Al_(0.2)Ga_(0.8)As中深能级的研究表明,MOS结构和p^+-n结构的DLTS结果相同。
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用水平法制备高纯砷化镓单晶的几个问题
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微电子学 1973年 第1期 19-24页
作者: 华庆恒
近来,砷化镓微波功率源器件多半采用外延材料作有源区。在国内,期望能作限累器件的体单晶工作仍在开展。努力的重点集中于进一步提高材料的纯度、温度性能、以及均匀性等几个方面,以期达到能与外延材料有相似或更高的水准。遵循毛主席... 详细信息
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局部加全局视角遮挡人脸表情识别方法
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计算机工程与应用 2024年 第13期60卷 180-189页
作者: 南亚会 华庆 西北大学信息科学与技术学院 西安710127 吕梁学院计算机科学与技术系 山西吕梁033001
实际场景中各种遮挡增加了表情识别难度。为此,提出一种滑块局部加权卷积注意力和全局注意力池化的视觉Transformer结合的方法来解决遮挡问题。利用主干网络提取表情特征图,将表情特征图裁剪成多个区域块,利用局部Patch注意力单元通过... 详细信息
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不均匀半导体中的高表观迁移率
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微电子学 1972年 第5期 19-24页
作者: 华庆恒
半导体中各种不均匀性对迁移率的影响在理论上已有不同深度的认识。尤里斯克处理过导体中不导电腔的影响,克劳福特讨论过半导体中由快中子辐照引进的畸变区的作用;白梯查明了电导率梯度及不连续性的影响;魏斯贝格研究过局部不均匀区周... 详细信息
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LEC GaAs中杂质和本征点缺陷分布对EL_2分布的影响
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半导体技术 1990年 第3期6卷 55-58页
作者: 杨瑞霞 李光平 华庆恒 河北工学院电气工程系 天津电子材料研究所
用红外吸收、熔体KOH腐蚀和霍尔效应测量等方法测量了硅掺杂和未掺杂LEC GaAs中EL_2浓度([EL_2])分布、位错密度分布、碳分布及硅分布发现掺硅和未掺杂样品中[EL_2]分布和位借密度分布的对应关系不同。[EL_2]分布与杂质和本征点缺陷分... 详细信息
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电子能谱技术的进展及应用
电子能谱技术的进展及应用
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第四届理化分析经验交流会
作者: 华庆恒 机电部第四十六研究所
一、引言电子能谱是近年来飞速发展的表面分析技术,光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(SES)是二种互相补充的手段,在微电子、材料科学、化学化工、失效机理分析等领域均有重要应用。二、原理(一)光电子能谱以光子轰击样品,使原子芯能级电...
来源: cnki会议 评论
集成电路生产中的分析测试技术
集成电路生产中的分析测试技术
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中国电子学会生产技术分会理化专委会第五届年会
作者: 华庆恒 天津电子工业部第46研究所
微电子技术是本世纪60年代以来对现代社会各个领域影响最大的一项工业技术,自1959年第一块集成电路问世以来,由于它能够比分离器件提供更优越的功能,发展十分迅猛,器件尺寸每年以20%速率递减,目前特征线宽已可做到0.5μm以下,集成电路... 详细信息
来源: cnki会议 评论
电子能谱技术的进展及应用
电子能谱技术的进展及应用
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中国电子学会生产技术学会理化分析四届年会
作者: 华庆恒 机电部第四十六研究所
一、引言电子能谱是近年来飞速发展的表面分析技术,光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(SES)是二种互相补充的手段,在微电子、材料科学、化学化工、失效机理分析等领域均有重要应用。二、原理(一)光电子能谱以光子轰击样品,使原子芯能级电...
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LEC—InP晶体中退火生成的PIn缺陷
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电子材料快报 1999年 第5期 12-13页
作者: 华庆恒
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考虑尾气排放的交叉口信号配时多目标优化研究
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系统仿真学报 2024年
作者: 丁新桓 华庆 党旭 辽宁工程技术大学土木工程学院
为缓解城市道路拥堵,提高交叉口交通效益与环境效益,本文建立了一种以交叉口总延误时间、总停车次数、通行能力和尾气排放总量为优化目标的多目标配时优化模型。该模型将尾气排放量纳入到数学优化模型中,通过构建一种基于比功率的尾... 详细信息
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