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感应耦合等离子体增强射频磁控溅射沉积ZrN薄膜及其性能研究

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物理学报 2008年第3期57卷 1796-1801页

作者：刘峰孟月东任兆杏舒兴胜中国科学院等离子体物理研究所合肥230031

利用感应耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在Si(111)片和M2钢表面制备了ZrN薄膜,研究了基片的温度和ICP功率对ZrN薄膜的结构以及性能影响.研究发现:在基片温度≤300℃沉积的ZrN薄膜择优取向为(111);基片温度达到450℃时薄膜出现Zr... 详细信息

利用感应耦合等离子体(ICP)增强射频磁控溅射技术在Si(111)片和M2钢表面制备了ZrN薄膜,研究了基片的温度和ICP功率对ZrN薄膜的结构以及性能影响.研究发现:在基片温度≤300℃沉积的ZrN薄膜择优取向为(111);基片温度达到450℃时薄膜出现ZrN(200)衍射峰,ZrN(111)晶面的织构系数明显降低.传统磁控溅射沉积薄膜为柱状结构,当ICP为200W,基片温度为300℃时沉积薄膜中柱状晶体消失;随着基片温度的升高,N/Zr元素比例降低,并且薄膜的电阻率下降;相对于传统溅射,ICP增强射频磁控溅射沉积薄膜的结构更加致密,硬度提高,应力降低.

关键词：感应耦合等离子体磁控溅射 ZrN薄膜微结构性能

一种新型微空阴极结构的大气压射频冷等离子体源

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物理学报 2006年第11期55卷 5872-5877页

作者：裘亮孟月东任兆杏钟少锋中国科学院等离子体物理研究所合肥230031

介绍微空阴极的结构和物理机理,着重介绍一种新型大气压下射频激励的大面积冷等离子体源---融合空心阴极(fused hollow cathodes,FHC).结合应用和与之有关的研究,简单介绍空心阴极的放电特性,以及影响其放电特性的因素,如阴极材料、气... 详细信息

介绍微空阴极的结构和物理机理,着重介绍一种新型大气压下射频激励的大面积冷等离子体源---融合空心阴极(fused hollow cathodes,FHC).结合应用和与之有关的研究,简单介绍空心阴极的放电特性,以及影响其放电特性的因素,如阴极材料、气体种类、频率、气体流速、气压、阴极内径等.另外提到了其他两种相关的微空阴极系统.

关键词：微空阴极大气压冷等离子体射频

ECR-PECVD制备Si_3N_4薄膜沉积工艺的研究

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物理学报 1999年第7期48卷 1309-1314页

作者：陈俊芳吴先球王德秋丁振峰任兆杏华南师范大学物理系中国科学院等离子体物理研究所

由偏心静电单探针诊断了电子回旋共振等离子体增强化学汽相沉积（ＥＣＲＰＥＣＶＤ）反应室内等离子体密度的空间分布规律．结果表明在轴向位置Ｚ＝５０ｃｍ处，直径１２ｃｍ范围内等离子体密度分布非常均匀．分析了等离子体密度径... 详细信息

由偏心静电单探针诊断了电子回旋共振等离子体增强化学汽相沉积（ＥＣＲＰＥＣＶＤ）反应室内等离子体密度的空间分布规律．结果表明在轴向位置Ｚ＝５０ｃｍ处，直径１２ｃｍ范围内等离子体密度分布非常均匀．分析了等离子体密度径向均匀性对沉积速率均匀性和薄膜厚度均匀性的影响．讨论了沉积制备一定薄膜厚度的Ｓｉ３Ｎ４薄膜的工艺重复性．研究了各种沉积工艺参数与Ｓｉ３Ｎ４薄膜沉积速率的相互关系．

关键词：氮化硅薄膜 ERR-PECVD 沉积工艺

大气压下冷等离子弧制备SiO_x涂层超疏水表面

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真空科学与技术学报 2010年第1期30卷 68-71页

作者：周振陈强刘福平任兆杏北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室北京102600 合肥研飞电器科技有限公司合肥230088

采用冷等离子弧在大气压下以六甲基二硅氧烷为单体制备SiOx超疏水薄膜,研究不同工艺参数对薄膜的结构性能影响。通过傅里叶红外光谱(FTIR)对SiOx薄膜进行了结构分析、通过原子力显微镜(AFM)和数字光学显微镜分析了SiOx薄膜的表面形貌、... 详细信息

采用冷等离子弧在大气压下以六甲基二硅氧烷为单体制备SiOx超疏水薄膜,研究不同工艺参数对薄膜的结构性能影响。通过傅里叶红外光谱(FTIR)对SiOx薄膜进行了结构分析、通过原子力显微镜(AFM)和数字光学显微镜分析了SiOx薄膜的表面形貌、通过接触角仪测试了所沉积的SiOx薄膜亲/疏水性。在较为详细的研究冷等离子弧制备工艺参数对薄膜的影响后,如基片高度、单体输入量、沉积时间等,我们得到,在基片高度为10cm、单体输入量为90mL.min-1、沉积时间为2min时,可以制备出接触角为160°以上的SiOx超疏水表面。

关键词：冷等离子体弧超疏水表面大气压 SiOx薄膜

电子回旋共振等离子体辅助溅射沉积锂磷氧氮薄膜

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无机材料学报 2006年第1期21卷 193-198页

作者：李驰麟傅正文舒兴胜任兆杏复旦大学化学系激光化学研究所上海市分子催化和功能材料重点实验室上海200433 中国科学院等离子体物理研究所合肥230031

用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮 (LiPON)薄膜． X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜．结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜... 详细信息

用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮 (LiPON)薄膜． X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜．结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构．但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利于N的插入．最佳的实验条件是在ECR 200W辅助下沉积的LiPON薄膜, 它的电导率约为8×10-6S／cm．讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理．

关键词：锂磷氧氮薄膜溅射沉积电子回旋共振锂离子传导率

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一种新型电磁轨道炮的设想

弹道学报 1998年第3期10卷 16-19,24页

作者：吕庆敖陶孟仙许家治任兆杏中国科学院等离子体物理研究所

在考察国内外电磁轨道炮研究进展的基础上，分析了固体电枢的电热特性和固体电枢转捩为等离子体机理，结合现在国内研究情况，提出了一种能够利用固体电枢优势，而又能同时避免固体电枢烧蚀缺陷的多级电磁轨道炮的设计方案．

关键词：电磁轨道炮固体电枢转捩多级轨道炮

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室温基底溅射沉积c轴取向ZnO薄膜

科学通报 1993年第7期38卷 610-612页

作者：张燕陵宁兆元任兆杏中国科学院等离子体物理研究所合肥230031

c轴取向氧化锌(ZnO)薄膜具有较强的压电和压光效应,常常用于声电、声光装置。在体声波(BAW)方面,如用于超声显微镜和薄膜谐振器等;在声表面波(SAW)方面,作为一种传输和相干材枓,它用作滤波器、卷积器、放大器、图象扫描以及谐振器;在导... 详细信息

c轴取向氧化锌(ZnO)薄膜具有较强的压电和压光效应,常常用于声电、声光装置。在体声波(BAW)方面,如用于超声显微镜和薄膜谐振器等;在声表面波(SAW)方面,作为一种传输和相干材枓,它用作滤波器、卷积器、放大器、图象扫描以及谐振器;在导向光波(GOW)中,ZnO薄膜也广泛应用于声光和电光装置和二次谐波发生器等。

关键词：氧化锌薄膜等离子体溅射沉积