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检索条件"作者=严如岳"
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SiC薄膜材料在MEMS中应用的研究进展
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压电与声光 2004年 第6期26卷 482-484,490页
作者: 崔梦 胡明 严如岳 天津大学电子信息工程学院 天津300072 中国电子科技集团公司天津电子材料研究所 天津300070
SiC材料具有极为优良的物理化学性能,以SiC材料替代传统Si材料制成的SiC微电子机械系统(MEMS),克服了SiMEMS本身性能的局限性,可满足在高温、高腐蚀等极端条件下的应用。文章综述了近几年SiC薄膜在MEMS中应用的研究进展,详细讨论了薄膜... 详细信息
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GaAs(100)表面氧化的XPS研究
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Chinese Journal of Chemical Physics 2004年 第1期17卷 87-90页
作者: 任殿胜 王为 李雨辰 严如岳 天津大学化工学院 天津300072 中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津300192
用X射线光电子能谱仪 (XPS)研究了砷化镓 (GaAs)晶片在空气中的热氧化和在紫外光 臭氧激发下的氧化反应 .分析了氧化层中的微观化学构成、表面化学计量比以及表面氧化层的厚度等 .研究表明 ,两种氧化方法的氧化过程不同 ,在砷化镓表面... 详细信息
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砷化镓半导体表面自然氧化层的X射线光电子能谱分析
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分析化学 2003年 第10期31卷 1191-1194页
作者: 任殿胜 王为 李雨辰 严如岳 信息产业部电子第四十六研究所 信息产业部电子第四十六研究所 天津300072 天津300072 天津300192 天津大学化工学院
用X射线光电子能谱 (XPS) ,测量了Ga3d和As3d光电子峰的结合能值 ,指认了砷化镓 (GaAs)晶片表面的氧化物组成 ,计算了表面氧化层的厚度 ,定量分析了表面的化学组成 ;比较了几种不同的砷化镓晶片表面的差异。结果表明 :砷化镓表面的自然... 详细信息
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空间微重力条件下GaAs晶体生长实验设计
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电子材料快报 1998年 第5期 2-4页
作者: 严如岳
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高能量密度物质一氮—5(N5)研究取得实验室突破
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电子材料快报 1999年 第9期 6-7页
作者: 严如岳
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X光电子谱(XPS)表面分析
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半导体杂志 1991年 第2期16卷 31-35,8页
作者: 严如岳 华庆恒
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匀胶铬版表面界面微观构成的X射线光电子能谱表征
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分析测试学报 1997年 第5期16卷 45-47页
作者: 任殿胜 华庆恒 严如岳 刘咏梅 电子工业部第四十六研究所
用X射线光电子能谱(XPS)研究了几种不同工艺制备的匀胶铬版表面、铬膜内部以及各层之间界面处的微观化学组成和化学状态,讨论了不同工艺对铬版材料微观构成及宏观特性的影响。
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Al_xGa_(1-x)As/GaAs异质结材料的XPS研究
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Chinese Journal of Chemical Physics 1997年 第3期10卷 272-275页
作者: 任殿胜 华庆恒 刘咏梅 严如岳 电子工业部第四十六研究所
用X射线光电子能谱(XPS)结合氩离子溅射深度剖析对一系列不同x值的AlxGa1-xAs/GaAs异质结材料中各主元素的分布及化学状态和相对含量的变化进行了分析,发现Al向表面偏析的现象及As和Al的择优溅射问题,并... 详细信息
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直流磁控溅射TiN/GaAs肖特基结的电学特性研究
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固体电子学研究与进展 1990年 第1期10卷 28-33页
作者: 华庆恒 严如岳 李岩松 陈古川 张菀 刘咏梅 杨媛琪 天津电子材料研究所
本文研究了经直流磁控溅射制备的TiN/GaAs肖特基结的电学特性.给出了不同退火温度下I-V,C-V测量结果及TiN/GaAs与Au/GaAs,Ti/GaAs,Al/GaAs接触特性的比较.应用AES与XPS进行肖特基结的表面和界面剖析,发现退火过程中TiN膜的氧化,N在TiN... 详细信息
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XPS法测量铝箔表面氧化铝的厚度
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分析测试学报 1996年 第4期15卷 63-66页
作者: 任殿胜 华庆恒 严如岳 刘咏梅 天津电子工业部第四十六研究所
介绍了一种无需溅射、无需变角,只需一次简单的XPS(X射线光电子能谱)窄扫描,即可根据谱图中氧化态和金属态的相对强度算出铝金属表面氧化铝的厚度。用该法测量了一系列不同方法处理的铝表面氧比铝厚度,并与椭偏法及NRA法(... 详细信息
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