检索结果-南通市图书馆

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Ti-V合金氢化物氢同位素效应的研究

Ti-V合金氢化物氢同位素效应的研究

作者：万竟平中国工程物理研究院

学位级别：硕士

研究了TiV,TiV和TiV三种合金及其氢化物的结构、吸氕、氘的热力学与动力学行为,测得了热力学、动力学参数和H-D平衡分离因子。结合理论模拟研究结果,获得了Ti—V合金的氢同位素效应。 Ti—V合金及其氢化物的结构确定,应用了XRD相结... 详细信息

研究了TiV,TiV和TiV三种合金及其氢化物的结构、吸氕、氘的热力学与动力学行为,测得了热力学、动力学参数和H-D平衡分离因子。结合理论模拟研究结果,获得了Ti—V合金的氢同位素效应。 Ti—V合金及其氢化物的结构确定,应用了XRD相结构分析和理论计算的方法。得到的结果是:研究的三种Ti—V合金为b.c.c结构,晶胞参数为0.3141nm;其纯β氢化物是f.c.c结构,晶胞参数为0.4314nm;Ti—V合金具有较好的稳定性,吸氕、氘后不发生分解。对三种合金吸氕、吸氘的p—c—T关系进行了研究,得到了与XRD分析相同的结论,即Ti—V合金吸氕氘的相转变坪台要在c>1.0后才能出现。在c1.0范围内,三种合金吸氕氘的焓值随着合金中Ti含量的增加而减少。Ti—V合金吸氕氘的热力学同位素效应不明显,但总体趋势是在相同条件下,氘的平衡压力略高于氕的平衡压力,表明氕化物比氘化物稳定。对三种合金—氢同位素体系的氢同位素效应进行了理论计算,得到各体系的总能量值和晶胞结构,通过比较得出Ti—V合金氕化物的稳定性>氘化物的稳定性>氚化物的稳定性。测得了三种合金吸氕氘的动力学曲线,发现三种合金吸氕氘动力学不遵从常见的气—固反应动力学方程,动力学过程十分复杂,同时受到温度、时间、氢同位素的压力、氢同位素在金属中的组成等诸多因素的影响。通过研究归纳,得到三种合金吸氕氘的动力学方程及适用范围为: 三种合金吸氕氘表现出明显的动力学氢同位素效应。Ti—V合金吸氕氘比较,吸氕的速率快、表观反应速率常数大、表观活化能低。表明氕易在固相中富集,而氘则在气相中富集。利用四极质谱仪测量了三种合金吸氕氘混合气体的平衡分离因子。结果是三种合金的氕氘分离因子数值均大于1,表明氘在气相中得到富集,而氕在固相中

关键词： Ti-V合金氢同位素效应 Sievert(希乌尔)定律 Van’t Hoff(范德霍夫)方程晶胞结构氕氘分离因子动力学方程

同方学位论文库评论

在线全文

同方学位论文库

学校读者我要写书评

暂无评论

Ti-V合金吸氢性能研究

核化学与放射化学 2004年第3期26卷 141-146页

作者：万竟平彭述明郝万立张涛黄海禹龙兴贵杨本福中国工程物理研究院核物理与化学研究所四川绵阳621900

介绍了Ti0.76V0.24和Ti0.51V0.49两种合金及其氢化物的结构确定方法。研究了它们的吸氢性能,测得了吸氢的P C T曲线。该曲线分成两个主要区段:当H原子数与Ti V原子数之和的比值小于1 0时,为氢气的固溶区,并近似遵从Sievert(希乌尔)定律... 详细信息

介绍了Ti0.76V0.24和Ti0.51V0.49两种合金及其氢化物的结构确定方法。研究了它们的吸氢性能,测得了吸氢的P C T曲线。该曲线分成两个主要区段:当H原子数与Ti V原子数之和的比值小于1 0时,为氢气的固溶区,并近似遵从Sievert(希乌尔)定律;当该比值大于1 0后,有的曲线出现吸氢坪台区。分别计算了在固溶区和坪台区吸氢的热力学参数。

关键词：钛-钒合金吸氢性能氢化物希乌尔定律热力学参数固溶区坪台区贮氢材料

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Ti-V合金吸氢动力学研究

材料导报 2007年第F5期21卷 247-249页

作者：万竟平彭述明龙兴贵杨本福中物院核物理与化学研究所绵阳621900

介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)吸氢动力学研究方法,获得了动力学曲线、动力学方程及表观动力学参数。分析了Ti-V合金吸氢动力学的影响因素,金属氢化物动力学过程的特点及其与气-固反应动力学的区别... 详细信息

介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)吸氢动力学研究方法,获得了动力学曲线、动力学方程及表观动力学参数。分析了Ti-V合金吸氢动力学的影响因素,金属氢化物动力学过程的特点及其与气-固反应动力学的区别。对反应程度进行归纳,得出Ti-V合金吸氢动力学方程的适用范围。

关键词： Ti—V合金动力学方程动力学参数氢化物

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

Ti-V合金及其氢化物结构的研究

材料导报 2006年第F11期20卷 451-454页

作者：万竟平彭述明龙兴贵杨本福中物院核物理与化学研究所绵阳621900

介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)及其氢化物的晶体结构确定方法。通过XRD分析和理论计算,确定这3种合金为bcc结构,它们的纯β相氢化物是fcc结构,并测得了这两类结构的晶胞参数。研究发现,Ti-V合金吸氢... 详细信息

介绍了3种组成的Ti-V合金(Ti0.76V0.24、Ti0.51V0.49和Ti0.25V0.75)及其氢化物的晶体结构确定方法。通过XRD分析和理论计算,确定这3种合金为bcc结构,它们的纯β相氢化物是fcc结构,并测得了这两类结构的晶胞参数。研究发现,Ti-V合金吸氢性能比金属V有所改善,H原子数与合金原子数之和的比大于1.0才能发生α相氢化物向β相氢化物的转变。

关键词： Ti—V合金晶体结构 XRD分析氢化物

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

锂陶瓷γ-LiAlO_2放氚行为研究

原子能科学技术 1999年第5期33卷 441-445页

作者：杨本福万竟平曹小华罗顺忠赵鹏骥中国工程物理研究院核物理与化学研究所

采用堆外实验来研究γ－LiAlO2增殖剂的放氚行为。根据测得的γ－LiAlO2的放氚曲线，确定了748～873K范围内氚在γ－LiAlO2中的扩散系数常数D0＝（1．39±0．10）×10(-9)m2·S(-1)，活化能Q＝（145±3）kJ·mol(-1)。

关键词：氚堆外实验增殖剂扩散系统锂陶瓷放氚

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

混合堆产氚演示回路及其氚释放实验

核动力工程 1994年第6期15卷 555-562页

作者：沈文德曹小华姜亦祥郭高品万竟平谈华锦熊智明西南核物理与化学研究所

本文介绍了我国第一条混合堆产氚演示回路，阐述了该回路的主要组成部分，如辐照盒、固体增殖剂、分析和监控系统等．在几轮反应堆现场氚释放实验中，研究了几个关键因素（增殖剂温度、载带气体成分和流量）对释氚的影响，给出了氚在γ... 详细信息

本文介绍了我国第一条混合堆产氚演示回路，阐述了该回路的主要组成部分，如辐照盒、固体增殖剂、分析和监控系统等．在几轮反应堆现场氚释放实验中，研究了几个关键因素（增殖剂温度、载带气体成分和流量）对释氚的影响，给出了氚在γ－ＬｉＡｌＩ２增殖剂中的扩散系数，并演示了从固体增殖剂包层中连续释氚的可行性和基本特性．实验结果表明，该回路性能良好．

关键词：氚回路释放聚变裂变混合堆

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

脉冲激光镀膜技术在氢化物薄膜制备中的应用

材料导报 2012年第S1期 126-128+140页

作者：万竟平梁建华中国工程物理研究院核物理与化学研究所

分析了脉冲激光沉积(PLD)镀金属薄膜的性能特点。PLD镀膜技术可望实现金属氢化与氢化物一步成膜,且薄膜应力小、缺陷少、晶格尺寸大,能够消除传统方法制备的金属薄膜在氢化过程中因膨胀而引起的膜性能降低,增强薄膜与基体的粘附能力、... 详细信息

分析了脉冲激光沉积(PLD)镀金属薄膜的性能特点。PLD镀膜技术可望实现金属氢化与氢化物一步成膜,且薄膜应力小、缺陷少、晶格尺寸大,能够消除传统方法制备的金属薄膜在氢化过程中因膨胀而引起的膜性能降低,增强薄膜与基体的粘附能力、薄膜的稳定性与固氦能力。PLD技术在氢化物薄膜研制中具有一定的技术优势,有望成为研制氢化物薄膜的重要技术手段。

关键词：脉冲激光沉积氢化物薄膜应力

在线全文

同方期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

脉冲激光镀膜技术在氢化物薄膜制备中的应用

材料导报（纳米与新材料专辑） 2012年第1期26卷 126-128,140页

作者：万竟平梁建华中国工程物理研究院核物理与化学研究所绵阳621900

关键词：脉冲激光沉积氢化物薄膜应力

Characterization of zirconium thin films deposited by pulsed laser deposition

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

Chinese Physics B 2014年第9期23卷 496-501页

作者：刘伟万竟平蔡吴鹏梁建华周晓松龙兴贵 Institute of Nuclear Physics and Chemistry China Academy of Engineering Physics

Zirconium （Zr） thin films deposited on Si （100） by pulsed laser deposition （PLD） at different pulse repetition rates are investigated. The deposited Zr films exhibit a polycrystalline structure, and the X-ray diffraction （XRD） patterns of the films show the α Zr phase. Due to the morphology variation of the target and the laser-plasma interaction, the deposition rate significantly decreases from 0.0431 A/pulse at 2 Hz to 0.0189A/pulse at 20 Hz. The presence of droplets on the surface of the deposited film, which is one of the main disadvantages of the PLD, is observed at various pulse repetition rates. Statistical results show that the dimension and the density of the droplets increase with an increasing pulse repetition rate. We find that the source of droplets is the liquid layer formed under the target surface. The dense nanoparticles covered on the film surface are observed through atomic force microscopy （AFM）. The root mean square （RMS） roughness caused by valleys and islands on the film surface initially increases and then decreases with the increasing pulse repetition rate. The results of our investigation will be useful to optimize the synthesis conditions of the Zr films.

关键词： laser processing Zr thin film droplet pulse repetition rate