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聚合物膜燃料电池阴极非Pt催化剂

化学进展 2009年第12期21卷 2753-2759页

作者：赵东江尹鸽平魏杰哈尔滨工业大学化工学院哈尔滨150001 绥化学院化学与制药工程系绥化152061 哈尔滨工业大学城市水资源与水环境国家重点实验室哈尔滨150001

简要介绍了聚合物膜燃料电池(PEMFC)的特点及其存在的主要技术问题。综述了PEMFC阴极非Pt催化剂的研究进展,重点讨论了过渡金属硫族化合物、过渡金属合金、过渡金属氮化物、过渡金属氧化物以及过渡金属大环化合物等非Pt催化剂对氧还原反... 详细信息

简要介绍了聚合物膜燃料电池(PEMFC)的特点及其存在的主要技术问题。综述了PEMFC阴极非Pt催化剂的研究进展,重点讨论了过渡金属硫族化合物、过渡金属合金、过渡金属氮化物、过渡金属氧化物以及过渡金属大环化合物等非Pt催化剂对氧还原反应(ORR)的催化活性、化学或电化学稳定性以及耐甲醇能力等性能,提出了阴极非Pt催化剂存在的问题以及发展趋势。Ru基硫族化合物、Pd基合金和过渡金属大环化合物催化剂具有良好的性能,有望成为PEMFC阴极Pt基催化剂的替代材料。

关键词：聚合物膜燃料电池非铂催化剂氧还原耐甲醇

NiSe_2化合物对氧还原反应的电催化性能

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稀有金属材料与工程 2014年第4期43卷 846-850页

作者：赵东江马松艳绥化学院黑龙江绥化152061

以NiCl2和Se粉为原料，采用溶剂热法合成了NiSe2化合物。利用SEM、XRD技术对化合物的微观形貌和相结构进行了表征，化合物由立方结构的NiSe2晶粒组成，呈现出类似花椰菜的表面形貌。利用旋转圆盘电极研究了NiSe2化合物对氧还原反应的电... 详细信息

以NiCl2和Se粉为原料，采用溶剂热法合成了NiSe2化合物。利用SEM、XRD技术对化合物的微观形貌和相结构进行了表征，化合物由立方结构的NiSe2晶粒组成，呈现出类似花椰菜的表面形貌。利用旋转圆盘电极研究了NiSe2化合物对氧还原反应的电催化性能。在0．5mol／LH2SO4电解液中，NiSe2化合物对氧还原反应呈现明显的电催化活性，开路电位为0．80V（***）。在0．63～0．77V（***）电位范围内，测定的交换电流密度为1．35×10-5mA／cm2。根据Koutecky—Levieh方程计算出每个氧分子还原转移电子数约为3．8。

关键词：聚合物电解质膜燃料电池非贵金属催化剂二硒化镍氧还原反应

CoSeO_3化合物的制备及对阴极氧还原的催化性能

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无机材料学报 2013年第6期28卷 644-648页

作者：赵东江马松艳尹鸽平绥化学院食品与制药工程学院绥化152061 哈尔滨工业大学化工学院哈尔滨150001

以Co4（CO）12和Se为原料,采用低温回流方法在乙二醇介质中合成了CoSeO3化合物。利用扫描电镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和旋转圆盘电极（RDE）技术表征合成的化合物微观形貌、结构特征和电化学性能。这种化合物主要由单斜结构的CoSeO... 详细信息

以Co4（CO）12和Se为原料,采用低温回流方法在乙二醇介质中合成了CoSeO3化合物。利用扫描电镜（SEM）、X射线衍射仪（XRD）和旋转圆盘电极（RDE）技术表征合成的化合物微观形貌、结构特征和电化学性能。这种化合物主要由单斜结构的CoSeO3 H2O晶粒组成,粒径大小约为26.7 nm,具有规则的晶体外形。在25℃,0.5 mol/L H2SO4电解液中,CoSeO3化合物对氧还原反应（ORR）表现出明显的电催化活性,开路电位为0.80 V（vs NHE）。根据Koutecky-Levich方程计算出每个氧分子还原过程转移的电子数约为3.8。在0.64~0.76 V（vs NHE）电位范围内,测得催化剂的传递系数、Tafel斜率和交换电流密度分别为0.50、119 mV和1.98×10-6mA/cm2。

关键词：非贵金属催化剂亚硒酸钴氧还原聚合物电解质膜燃料电池回流法

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形态滤波技术及其在继电保护中的应用

电力系统自动化 2003年第7期27卷 45-49页

作者：吴青华张东江英国利物浦大学电气工程及电子系

系统地介绍了数学形态学理论及其在电力系统继电保护中的应用。在近来相关研究工作的基础上 ,总结出两种适于电力系统暂态信号分析的形态学算法 ,即形态学信号分解和多分辨形态学梯度 ,并将它们成功地应用于变压器保护中励磁涌流的识别... 详细信息

系统地介绍了数学形态学理论及其在电力系统继电保护中的应用。在近来相关研究工作的基础上 ,总结出两种适于电力系统暂态信号分析的形态学算法 ,即形态学信号分解和多分辨形态学梯度 ,并将它们成功地应用于变压器保护中励磁涌流的识别和超高速暂态保护中的故障暂态波形特征提取。仿真结果证明。

关键词：形态滤波技术继电保护电力系统励磁涌流暂态保护暂态信号处理

石英衬底上生长的高光学质量的纳米金刚石薄膜

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物理学报 2002年第8期51卷 1870-1874页

作者：邱东江石成儒吴惠桢浙江大学物理系杭州310028 浙江大学中心实验室杭州310028

采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜 .用扫描电子显微镜 (SEM)和台阶仪观测薄膜的表面形貌和粗糙度 ,x射线衍射 (XRD)和Raman光谱表征膜层的结构 ,... 详细信息

采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积 (RF HFCVD)技术在石英玻璃衬底上制备了表面光滑、晶粒致密均匀的纳米金刚石薄膜 .用扫描电子显微镜 (SEM)和台阶仪观测薄膜的表面形貌和粗糙度 ,x射线衍射 (XRD)和Raman光谱表征膜层的结构 ,并用紫外可见近红外光谱仪测量其光透过率 .实验结果表明 ,衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性、表面粗糙度及光透过率均有很大程度的影响 ,其最佳值分别为 70 0℃ ,2× 133Pa和 2 0 0W .在该最佳参量下经 1h的生长即获得连续、平滑的纳米金刚石膜 ,其平均晶粒尺寸为约 2 5nm ,表面平均粗糙度仅为 5 5nm ,在近红外区的光透过率高达 90 %

关键词：石英衬底高光学质量纳米金刚石薄膜射频等离子体增强热丝化学气相沉积光透过率外延生长