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氧分压对HfO_xN_y薄膜结构和力学性能的影响

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人工晶体学报 2009年第1期38卷 16-20页

作者：刘伟苏小平张树玉闫兰琴王宏斌刘嘉禾北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料。用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶... 详细信息

采用射频磁控反应溅射法在不同氧分压条件下制备了氮氧化铪薄膜,薄膜沉积过程在氧气、氮气和氩气的混合气氛中进行,所用衬底为多光谱硫化锌材料。用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米硬度计等分别研究了不同氧分压条件下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、力学性能等。结果表明:在氧分压为0.05~0.30范围内,HfOxNy薄膜都为多晶结构,但随着氧分压的降低,HfOxNy薄膜的沉积速率逐渐增大,薄膜的晶体结构由单斜氧化铪转变为氮氧化铪相;不同氧分压下沉积的HfOxNy薄膜都符合薄膜区域结构模型中典型的柱状结构且氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;不同氧分压条件下沉积的HfOxNy薄膜硬度和弹性模量都远大于衬底硫化锌的硬度和弹性模量,氧分压为0.15时最大硬度和弹性模量值分别为11.6 GPa和160 GPa。

关键词：氮氧化铪薄膜射频磁控反应溅射晶体结构显微结构力学性能

Ge基底7.5～11.5μm波段高性能红外增透膜的研制

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红外与激光工程 2010年第5期39卷 871-874页

作者：闫兰琴张树玉刘伟刘嘉禾袁果黎建明杨海苏小平北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

为了提高Ge基底的红外光能量的透过率和膜层的机械强度,对Ge基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究。介绍了红外宽带减反射膜的合理的膜料选择、膜系设计和优化方法以及采用离子束辅助沉积技术沉积该膜系的过程。... 详细信息

为了提高Ge基底的红外光能量的透过率和膜层的机械强度,对Ge基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究。介绍了红外宽带减反射膜的合理的膜料选择、膜系设计和优化方法以及采用离子束辅助沉积技术沉积该膜系的过程。给出了离子束辅助沉积技术各工艺参数,以及在最佳参数条件下制备的7.5～11.5μm波段宽带减反射膜单双面增透实测光谱曲线,其峰值透过率高达99.2%,在设计的波段范围内,平均透过率大于98%,膜层附着性能好,光机性能稳定,重复性好,能够通过GJB2485-95所规定的各项环境测试,并且光学性能没有明显的变化,这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。

关键词： Ge基底红外宽带增透膜优化离子辅助沉积

氧分压对掺钼氧化铟透明导电薄膜光电性能的影响

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功能材料与器件学报 2011年第1期17卷 46-50页

作者：袁果黎建明张树玉刘伟闫兰琴北京国晶辉红外光学科技有限公司北京有色金属研究总院北京100088

采用射频磁控反应溅射法在k9玻璃衬底上制备了In2O3:Mo(IMO)透明导电薄膜,分析了不同氧分压条件下IMO薄膜的晶体结构、化学成分及光电性能。结果表明:不同氧分压下制备的IMO薄膜具有不同晶粒的取向性;随着氧分压的增加,薄膜的载流子浓... 详细信息

采用射频磁控反应溅射法在k9玻璃衬底上制备了In2O3:Mo(IMO)透明导电薄膜,分析了不同氧分压条件下IMO薄膜的晶体结构、化学成分及光电性能。结果表明:不同氧分压下制备的IMO薄膜具有不同晶粒的取向性;随着氧分压的增加,薄膜的载流子浓度、载流子迁移率先增加后减小;薄膜的电阻率呈现先增加再减少然后再增加的趋势。在可见及近红外区,有氧气氛下制备的IMO薄膜的平均透过率大于80%以上,并随氧分压的升高而增大。

关键词：掺钼氧化铟薄膜氧分压电学性能光学性能

纳米硅层状薄膜及其p-i-n太阳能电池的研制

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Journal of Semiconductors 2007年第Z1期28卷 333-336页

作者：金飞张维佳贾士亮丁照崇闫兰琴王天民李国华北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心北京100083 中国科学院半导体研究所半导体超晶格国家重点实验室北京100083

通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法分别制备了本征、掺磷和掺硼的氢化纳米硅薄膜(nc-Si:H),并制备出纳米硅复合层状薄膜.对薄膜样品进行了喇曼(Raman)散射谱,X射线衍射等分析测试.结果表明:掺杂元素对纳米硅薄膜的晶态比和晶粒大... 详细信息

通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法分别制备了本征、掺磷和掺硼的氢化纳米硅薄膜(nc-Si:H),并制备出纳米硅复合层状薄膜.对薄膜样品进行了喇曼(Raman)散射谱,X射线衍射等分析测试.结果表明:掺杂元素对纳米硅薄膜的晶态比和晶粒大小存在不同程度的影响;通过薄膜表面衍射(XRD)可得到硅的(111),(220)和(311)三个晶面衍射峰;并在制得的纳米硅复合层状薄膜的基础上,制备了结构为Al/ITO/n+-nc-Si:H/i-nc-Si:H/p-c-Si/Al/Ag的太阳能电池.该电池的开路电压、短路电流和填充因子与非晶硅太阳电池相比,均得到很大的提高.

关键词： PECVD 太阳能电池半导体薄膜

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ZnSe基底7～14μm波段宽带增透膜

激光与红外 2009年第2期39卷 210-212页

作者：闫兰琴张树玉黎建明杨海苏小平余怀之刘嘉禾刘伟北京有色金属研究总院国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

简要叙述了7～14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究。介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程。给出了用该方法制备的7—14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线，其峰值透过率高达98％... 详细信息

简要叙述了7～14μm波段红外增透膜的膜料选择以及硒化锌基底上高性能红外增透膜的设计和工艺研究。介绍了离子辅助沉积技术沉积该膜的的工艺过程。给出了用该方法制备的7—14μm波段宽带减反射膜的实测光谱曲线，其峰值透过率高达98％以上，在设计波段范围内平均透过率大于97％，膜层附着性能好，光机性能稳定。这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。

关键词： ZnSe基底红外宽带增透膜优化离子辅助沉积技术

ZnS上HfON保护膜及增透膜系的制备和性能研究

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激光与红外 2009年第5期39卷 531-533页

作者：刘伟张树玉闫兰琴袁果刘嘉禾黎建明杨海苏小平余怀之北京有色金属研究总院北京国晶辉红外光学科技有限公司北京100088

用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8-12μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%... 详细信息

用氮氧化铪薄膜作为CVDZnS衬底的保护膜、由YbF3和ZnS组成的增透膜系分别在CVDZnS的两面制备了保护膜和增透膜,研究了镀膜前后CVDZnS在8-12μm波段的光学性能,单面镀制增透膜之后CVDZnS在此波段的平均透过率由未镀膜前的74%提高到了82%,峰值透过率大于83.5%。在CVDZnS上镀制HfON保护膜后,其8-12μm波段透过率没有明显的降低,同时硬度测试表明HfON薄膜的硬度约为11.6 GPa,远大于衬底CVDZnS的硬度。胶带实验和泡水试验表明,制备的保护膜和增透膜均和衬底有很好的附着力。

关键词：硫化锌氮氧化铪保护膜增透膜硬度

多光谱ZnS基底可见到红外多波段增透膜的研制

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多光谱ZnS基底可见到红外多波段增透膜的研制

基于剩余收益模型的国产化妆品企业价值评估研究 ——以珀莱雅为例

2009年先进光学技术及其应用研讨会

作者：闫兰琴张树玉刘伟袁果刘嘉禾黎建明杨海苏小平北京有色金属研究院国晶辉红外光学科技有限公司

为了提高锗基底的红外光能量的透过率和膜层的机械强度,对锗基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究。介绍了红外宽带减反射膜的合理的膜料选择、膜系设计和优化方法以及采用离子束辅助沉积技术沉积该膜系的过程。... 详细信息

为了提高锗基底的红外光能量的透过率和膜层的机械强度,对锗基底上高性能的红外宽带减反射膜的设计与制备工艺进行了研究。介绍了红外宽带减反射膜的合理的膜料选择、膜系设计和优化方法以及采用离子束辅助沉积技术沉积该膜系的过程。给出了离子束辅助沉积技术各工艺参数,并给出在最佳参数条件下用该方法制备的7.5～11.5μm波段宽带减反射膜单双面增透实测光谱曲线,其峰值透过率高达99.2%以上,在设计波段范围内平均透过率大于98%,膜层附着性能好,光机性能稳定,重复性好,能够通过GJB2485-95所规定的各项环境测试,并且光学性能没有明显的变化,这对于红外光学系统的应用具有十分重要的意义。

关键词： m-ZnS 多波段增透离子辅助沉积技术 needle法

来源： cnki会议评论

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基于剩余收益模型的国产化妆品企业价值评估研究 ——以珀莱雅为例

作者：兰琴云南财经大学

学位级别：硕士

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重频大能量激光放大器热管理技术研究进展

激光与光电子学进展 2024年

作者：陈阳阳陈林刘兰琴中国工程物理研究院激光聚变研究中心中国工程物理研究院研究生院

近年来，重频大能量脉冲激光器的研究取得了很大的进步，表现出广阔的应用前景。本文将以激光放大器的冷却方式为主线从增益介质的选取、冷却方式和冷却构型三个方面对重频大能量激光放大器热管理关键技术进行了调研，总结了国内外重频... 详细信息

近年来，重频大能量脉冲激光器的研究取得了很大的进步，表现出广阔的应用前景。本文将以激光放大器的冷却方式为主线从增益介质的选取、冷却方式和冷却构型三个方面对重频大能量激光放大器热管理关键技术进行了调研，总结了国内外重频大能量激光放大器热管理方面的关键技术，分析了当前在热管理技术方面存在的主要问题，并对该技术未来发展趋势进行了展望。

关键词：重复频率热管理增益介质冷却方式