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孪生磁控溅射制备氮化铬涂层的研究

真空科学与技术学报 2013年第12期33卷 1242-1245页

作者：尹星沈丽如金凡亚但敏许泽金核工业西南物理研究院成都610041

主要研究了孪生磁控溅射技术制备不同含氮量的CrNx涂层,以及N2流量对涂层组织、结构性能、耐腐蚀性能的影响。试验设备采用自行研制的MSP-1000复合离子镀膜机,配置了四对孪生磁控溅射靶和对称双极性脉冲中频磁控溅射电源。结果表明:增... 详细信息

主要研究了孪生磁控溅射技术制备不同含氮量的CrNx涂层,以及N2流量对涂层组织、结构性能、耐腐蚀性能的影响。试验设备采用自行研制的MSP-1000复合离子镀膜机,配置了四对孪生磁控溅射靶和对称双极性脉冲中频磁控溅射电源。结果表明:增加氮流量对膜层的性质有重要的影响。如CrN晶体生长取向,随着N2流量的增加CrN择优取向由转变为,N2流量较低时涂层中生成有Cr2N相。在N2流量为33%和100%时的CrNx腐蚀电位分别为-0117和-0133 V,具有较强的抗盐雾腐蚀性能。

关键词：中频磁控溅射 CrN涂层耐腐蚀性能腐蚀电位 X射线衍射

15-5PH不锈钢基体上硬质膜层制备及性能研究

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真空科学与技术学报 2013年第3期33卷 197-202页

作者：陈美艳沈丽如童洪辉金凡亚许泽金核工业西南物理研究院成都610041

对比不同的表面处理工艺,选择多弧离子镀方法在15-5PH不锈钢基材表面制备TiN硬质涂层。分析制备工艺对膜层的表面硬度、膜/基结合强度、膜层结构等基本物理性能的影响,进行工艺优化。结果显示在预热温度高于200℃后,TiN膜层结晶效果较好... 详细信息

对比不同的表面处理工艺,选择多弧离子镀方法在15-5PH不锈钢基材表面制备TiN硬质涂层。分析制备工艺对膜层的表面硬度、膜/基结合强度、膜层结构等基本物理性能的影响,进行工艺优化。结果显示在预热温度高于200℃后,TiN膜层结晶效果较好;负偏压达到600V后,膜/基间"伪扩散"层出现,膜/基结合性能明显提高;工作气压升高,膜层表面硬度、膜/基结合力和沉积速率先升高后下降,分别在4.0,3.0和2.5 Pa达到峰值。最终获得的TiN硬质膜层表面硬度大于2000HV0.05,膜/基结合力最小临界载荷高于70N。镀膜处理后,工件的各种性能测试均能满足具体使用要求。

关键词： 15-5PH 多弧 TiN 维氏硬度结合力

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Be/CuCrZr合金扩散连接的界面行为

稀有金属材料与工程 2010年第1期39卷 122-125页

作者：叶林森谌继明谢东华王锡胜许泽金陈伟中国工程物理研究院四川绵阳612900 核工业西南物理研究院四川成都610041

在不同表面粗糙度的Be侧镀Ti/Cu中间层,采用热等静压技术将铍与CuCrZr合金进行扩散连接。通过AES、SEM(EDS)、室温剪切试验和XRD等分析其镀层形貌及成分、界面特性与相结构。结果表明:9μmTi、35μmCu镀层带征较为均匀,影响扩散连接强... 详细信息

在不同表面粗糙度的Be侧镀Ti/Cu中间层,采用热等静压技术将铍与CuCrZr合金进行扩散连接。通过AES、SEM(EDS)、室温剪切试验和XRD等分析其镀层形貌及成分、界面特性与相结构。结果表明:9μmTi、35μmCu镀层带征较为均匀,影响扩散连接强度的元素较少,采用双靶单侧镀复合膜的工艺有利于减少Ti镀层的氧化;界面剪切强度明显提高,最高可达243MPa,Be表面粗糙度的不同对强度影响不明显;Be-Ti连接强度高,剪切断裂均发生在Cu镀层。

关键词：表面粗糙度 Be:CuCrZr合金镀层热等静压扩散连接

温度对铜膜中间层W/CuCrZr热等静压焊接质量的影响

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稀有金属材料与工程 2017年第12期46卷 3972-3976页

作者：杨发展沈丽如金凡亚许泽金董玉英核工业西南物理研究院四川成都610041

采用磁控溅射沉积40μm铜膜作为中间层,分别在950、980和1050℃下通过热等静压(HIP)焊接技术制备了国际热核聚变实验堆(ITER)计划W/CuCrZr偏滤器部件焊接模块,以考察温度对磁控溅射沉积40μm铜膜作为中间层W/CuCrZr偏滤器部件焊接质量... 详细信息

采用磁控溅射沉积40μm铜膜作为中间层,分别在950、980和1050℃下通过热等静压(HIP)焊接技术制备了国际热核聚变实验堆(ITER)计划W/CuCrZr偏滤器部件焊接模块,以考察温度对磁控溅射沉积40μm铜膜作为中间层W/CuCrZr偏滤器部件焊接质量的影响。通过扫描电子显微镜(SEM)和EDS能谱分析焊接界面的形貌和成分,利用超声波无损探伤(NDT)仪对焊接界面缺陷进行了检测,利用力学拉伸试验机考察了焊接界面的结合强度和CuCrZr合金的力学性能。结果表明:磁控溅射法沉积40μm铜膜作为中间层,可以有效地提高HIP焊接界面质量。特别是在980℃时,所制备的焊接模块能够满足ITER计划对于偏滤器部件连接性能的要求。

关键词：偏滤器磁控溅射铜膜热等静压焊接

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高功率脉冲磁控溅射电源的研制

真空科学与技术学报 2013年第2期33卷 168-170页

作者：王洪国陈庆川韩大凯尹星许泽金沈丽茹金凡亚核工业西南物理研究院成都610041

高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注。高压大电流脉冲电源是实现该技术的重要环节之一。本论文介绍了一种HPPMS电源,该电源由充电电源、斩波输出两部分组成,给出了主电路框图。分析了大电流对斩波开关过电压的影响,采... 详细信息

高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注。高压大电流脉冲电源是实现该技术的重要环节之一。本论文介绍了一种HPPMS电源,该电源由充电电源、斩波输出两部分组成,给出了主电路框图。分析了大电流对斩波开关过电压的影响,采用RC吸收和续流有效地抑制了电压过冲,用所研制的电源进行HPPMS镀膜试验,结果表明电源运行稳定可靠,制备的薄膜表面清洁、致密,其平均表面粗糙度很低。可以预见HPPMS技术将会促进镀膜技术的发展。

关键词：高功率脉冲磁控溅射电源等离子体放电 Ti膜

表面处理对PEEK GF30磁控溅射镀Cu金属化的影响

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表面技术 2022年第7期51卷 297-305页

作者：钟利金凡亚但敏童洪辉敬星王新超许泽金核工业西南物理研究院中核同创(成都)科技有限公司成都610207 中国核动力研究设计院成都610213

目的赋予基材PEEK GF30良好的导电性。方法以磁控溅射镀膜技术在表面沉积Cu膜。分别采用离子注入和等离子体活化两种技术对基材进行界面处理,通过接触角测试、红外光谱测试和界面微观形貌观察,与原始基材展开表面状态对比。再在此基础... 详细信息

目的赋予基材PEEK GF30良好的导电性。方法以磁控溅射镀膜技术在表面沉积Cu膜。分别采用离子注入和等离子体活化两种技术对基材进行界面处理,通过接触角测试、红外光谱测试和界面微观形貌观察,与原始基材展开表面状态对比。再在此基础上进行金属化处理,并对3种不同界面状态下所制膜层的相结构、表面及断口形貌和成分、膜基结合强度进行判定和分析,探讨界面状态的影响因素以及对膜基结合性能的作用机理。结果注入金属Ti后,表面Ti含量得到了有效提高,但表面润湿性能无明显改变,活化处理后表面极性基团增加、润湿性能大幅提升,为镀膜提供了良好的界面状态。在原始状态、注入和活化后3种不同界面状态下制备的Cu膜均沿Cu(225)择优生长,活化后所制膜层的结晶度最优。原始状态下所制膜层平整性欠佳、膜基交界处异种材料差异明显,涂层附着力保持为5级,结合力金属微粒“锚扎”强化深度和强度效果最佳,涂层附着力保持为0级,结合力提升至15.45 N。结论金属注入能够改善膜基结合强度,但改善效果受限于注入层深度的影响。等离子体活化处理能够提高表面活性,改善基材表面环境,可有效提高膜基结合强度。

关键词：磁控溅射镀膜表面金属化界面处理注入活化聚醚醚酮膜基结合强度

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浅释汉语拼音与国际音标

现代语文（下旬．语言研究） 2007年第6期 12-13,34页

作者：许泽金

汉语拼音由拉丁字母组成。从1605年意大利人利玛窦开始，到后来英国人威妥玛和翟理斯创制的威妥玛—翟理斯式汉语拼音，确立了英式汉语拼音的基本形式。1958年《汉语拼音方案》是威妥玛-翟理斯英式拼音的继承和发展。本文在介绍汉语，... 详细信息

汉语拼音由拉丁字母组成。从1605年意大利人利玛窦开始，到后来英国人威妥玛和翟理斯创制的威妥玛—翟理斯式汉语拼音，确立了英式汉语拼音的基本形式。1958年《汉语拼音方案》是威妥玛-翟理斯英式拼音的继承和发展。本文在介绍汉语，使汉语拼音与音标更加完善拼音字母表示法的基础上，提出了关于修订《汉语拼音方案》的设想，以求教于方家。

关键词：《汉语拼音方案》国际音标威妥玛拉丁字母意大利人拼音字母利玛窦英国人

低温等离子复合技术制备氧化铝阻氚涂层（英文）

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稀有金属材料与工程 2017年第10期46卷 2837-2841页

作者：冯军陈美艳童洪辉金凡亚但敏许泽金沈丽如张桂凯南华大学湖南衡阳421001 核工业西南物理研究院四川成都610041 中国工程物理研究院四川绵阳621907

采用低温等离子复合技术,先后经过磁控溅射镀铝,热处理及氧离子注入,在不锈钢基体上制备了氧化铝阻氚涂层。利用XRD、SEM、EDS、AES对涂层进行了相结构、表面形貌、成分、氧元素分布等分析,并进行了划痕试验、抗热震及阻氚性能测试。结... 详细信息

采用低温等离子复合技术,先后经过磁控溅射镀铝,热处理及氧离子注入,在不锈钢基体上制备了氧化铝阻氚涂层。利用XRD、SEM、EDS、AES对涂层进行了相结构、表面形貌、成分、氧元素分布等分析,并进行了划痕试验、抗热震及阻氚性能测试。结果表明:磁控溅射获得了高质量的铝涂层,热处理后形成了Fe Al合金过渡层。在氧离子注入中,当注入剂量不变电压增加时,离子注入深度增加,而氧元素分布梯度降低;当注入剂量达到8×10^(17) ions/cm^2以上时,氧元素分布变得均匀。所获得的氧化铝涂层具有较好膜/基结合力、抗热震性能及阻氚性能。经过叠加电压注入且剂量达到8×10^(17) ions/cm^2的膜层具有最好的阻氚性能,在600℃能使不锈钢的氚渗透率降低3个数量级。

关键词：氧化铝涂层阻氚磁控溅射离子注入热处理

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过渡层厚度对TiN涂层结合性能的影响

材料保护 2022年第6期55卷 11-17页

作者：钟利但敏沈丽如金凡亚敬星许泽金李炯核工业西南物理研究院四川成都610207 中国核动力研究设计院四川成都610213

为了研究过渡层厚度对涂层结合性能的影响机理和规律,采用阴极弧离子镀技术在钛合金表面制备TiN涂层,以Ti作为过渡层,通过调整过渡层厚度来对比涂层的断裂韧性、显微硬度、断口形貌以及结合强度的变化规律。结果显示:TiN涂层均沿(111)... 详细信息

为了研究过渡层厚度对涂层结合性能的影响机理和规律,采用阴极弧离子镀技术在钛合金表面制备TiN涂层,以Ti作为过渡层,通过调整过渡层厚度来对比涂层的断裂韧性、显微硬度、断口形貌以及结合强度的变化规律。结果显示:TiN涂层均沿(111)密排面择优取向,涂层断口均呈现柱状晶结构。随着过渡层厚度的增加,涂层的断裂韧性先增加后减小,断口韧窝逐渐变大、加深,由沿晶断裂发展为穿晶断裂,结合强度先增加后降低,在过渡时间9 min时达到最高值62 N。沉积最佳厚度的Ti过渡层能够吸收变形能量、控制残余应力,能有效提高涂层的结合性能。

关键词：阴极弧离子镀 TiN涂层 Ti过渡层厚度断裂韧性结合性能