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作者

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检索条件"作者=曹宏斌"
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生物电催化方法处理三氯乙酸的研究
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环境科学 2005年 第4期26卷 55-58页
作者: 李玉平 曹宏斌 张懿 中国科学院过程工程研究所
利用吸附法将血红蛋白(Hb)固定在碳纳米管修饰电极表面,研究了Hb在碳纳米管修饰电极的直接电化学行为.固载Hb碳纳米管修饰电极在pH=7·0的PBS缓冲溶液中于-0·300V(vsSCE)处有一对相当可逆的循环伏安还原氧化峰,为Hb血红素辅基Fe(Ⅲ)/Fe... 详细信息
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交流电场对生物膜胞外聚合物提取过程的影响
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中国环境科学 2003年 第3期23卷 243-246页
作者: 钟方丽 曹宏斌 李鑫钢 天津大学化学工程研究所 天津300072
利用电场特性,研究了交流电场的电流、频率大小对生物膜胞外聚合物(EPS)提取过程的影响,当电流密度小于10mA/cm2时,外电场对生物膜内微生物细胞影响较小;提取剂不同则对应的最佳提取频率不同,NaOH提取剂较适合的频率范围是10~100Hz;在... 详细信息
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伯胺萃取Cr(Ⅵ)的光谱学研究
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光谱学与光谱分析 2008年 第7期28卷 1518-1521页
作者: 林晓 曹宏斌 张懿 中国科学院过程工程研究所绿色过程与工程重点实验室
利用等离子体发射光谱(ICP-AES),激光拉曼光谱,傅里叶变换红外光谱(FTIR),核磁共振(1HNMR)分析技术对伯胺在近中性条件下从水溶液中萃取Cr(Ⅵ)的过程进行了研究。ICP-AES对萃取前后水相Cr(Ⅵ)浓度测试结果显示,在近中性条件下,伯胺仍然... 详细信息
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血红蛋白在碳纳米管修饰碳糊电极上的直接电化学行为
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物理化学学报 2005年 第2期21卷 187-191页
作者: 李玉平 曹宏斌 张懿 1中国科学院过程工程研究所 中国科学院过程工程研究所 北京100080
利用吸附法将血红蛋白(Hb)固定在碳纳米管修饰碳糊电极表面,制成稳定的固载Hb碳纳米管修饰电极,研究了Hb在碳纳米管修饰电极上的直接电化学行为.固载Hb的碳纳米管修饰电极在pH=7.0的PBS(磷酸盐缓冲溶液)中有一对相当可逆的循环伏安氧化... 详细信息
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电沉积制备Ni-P非晶态催化电极上的析氢反应
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过程工程学报 2004年 第1期4卷 8-11页
作者: 陈艳丽 李陵川 张懿 曹宏斌 中国科学院过程工程研究所 北京100080
用直接电沉积法在室温下制备出不同磷含量的NiP合金电极,用恒电流极化法研究了电极在20oC的1 mol/L KOH溶液中作为析氢反应阴极的催化性能,并用XRD及SEM方法研究了NiP合金镀层的组织结构. 实验结果表明,磷含量为8.49 at%的NiP合金电极... 详细信息
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碳酸钠溶液吸收H_2S气体的传质性能及数学模型分析
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过程工程学报 2013年 第6期13卷 931-938页
作者: 罗洋 盛宇星 曹宏斌 中国科学院过程工程研究所绿色过程与工程重点实验室 北京100190 中国科学院大学 北京100049
采用Na2CO3溶液在填料塔中分别吸收高、低浓度H2S气体,通过测定总体积传质系数(KGa),采用基于Box-Behnken设计的响应面分析方法研究吸收液流量、浓度和气体流量对KGa的影响,建立了Na2CO3溶液吸收高、低浓度H2S的二次响应曲面模型.结果表... 详细信息
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填料塔中Na_2CO_3吸收高浓度H_2S的传质特性
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环境工程学报 2014年 第4期8卷 1561-1566页
作者: 罗洋 盛宇星 曹宏斌 中国科学院过程工程研究所绿色过程与工程重点实验室 北京100190 中国科学院大学 北京100049
在填料吸收塔中考察了Na2CO3溶液吸收高浓度H2S气体的气液传质特性。通过测量填料塔进出口气体中H2S浓度计算了Na2CO3溶液吸收高浓度H2S气体的总体积传质系数(KGa),并研究了进气流速、吸收液流量、吸收温度和吸收液浓度对KGa的影响。结... 详细信息
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可膨胀石墨阻燃水发泡聚氨酯泡沫塑料的制备
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高分子材料科学与工程 2009年 第6期25卷 128-131页
作者: 董金路 曹宏斌 张懿 中国科学院过程工程研究所 北京100080 中国科学院研究生院 北京100049
采用四溴醇合成了适合水发泡的阻燃聚醚多元醇,并通过可膨胀石墨与其它阻燃剂的复配使用,制得了可膨胀石墨阻燃的水发泡聚氨酯泡沫塑料。讨论了溴代醇种类、发泡剂种类及用量、可膨胀石墨粒径及用量和复合阻燃剂配比等因素对泡沫阻燃性... 详细信息
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羧酸气相催化酮化合成研究进展
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现代化工 2008年 第9期28卷 22-26页
作者: 宁朋歌 曹宏斌 张懿 中国科学院过程工程研究所绿色过程与工程院重点实验室 北京100080 中国科学院研究生院 北京100049
介绍了羧酸气相催化酮化合成酮的反应过程,以反应所涉及的关键影响因素如催化剂、反应物和反应温度等为对象,系统综述了羧酸气相催化酮化反应的国内外研究进展,对反应机理的研究成果进行了归纳,并指出了将该反应予以推广的必要性,探讨... 详细信息
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埋层图形横向位移对器件参数影响的研究
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半导体技术 1994年 第5期10卷 37-41页
作者: 曹宏斌 西安航天部六九一厂
本文重点从埋层图形横向位移对双极器件参数的影响出发,研究了埋层图形横向位移的机理、位移方向和不同外延层厚度的位移量,提出解决埋层图形横向位移的唯一途径是利用版图的对准符号配合硅片参考面来消除横向位移。并建议在单通隔离... 详细信息
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