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应用等离子体物理学 1

Effect of current frequency on properties of coating formed by microarc oxidation on AZ91D magnesium alloy

2008年

作者：张谷令等

本书内容包括：等离子体基本知识、等离子体中粒子间的碰撞和等离子体元过程、单粒子轨道理论、磁流体力学理论、等离子体的产生、低气压冷等离子体的应用等。

ISBN: (数字)9787811193787

ISBN: (纸本)9787811193787

关键词：等离子体物理学

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Transactions of Nonferrous Metals Society of China 2015年第5期25卷 1500-1505页

作者：邹斌吕国华张谷令田雨夜中央民族大学理学院北京100081 中国科学院物理研究所北京100190

The microarc oxidation（MAO） coatings produced at different current frequencies on AZ91 D magnesium alloys were studied systematically. The morphologies, thickness, corrosion performances, and tribological properties of the coatings were investigated by the scanning electron microscopy, the electrochemical measurement system, and MS-T3000 friction test rig, respectively. The results show that the structure of the coatings becomes denser, and thickness becomes thinner with the increase of the current frequency. It is also found that the corrosion resistance of the coatings produced at higher frequency is improved greatly and the difference of the corrosion current density becomes small with increasing current frequency, which is similar to that of the coating thickness. The tribological test shows that the friction coefficient decreases with increasing the current frequency and the wear resistance of the coatings is influenced by both the thickness and structures. All these results were explained by analyzing the growing process of the MAO coating.

关键词： AZ91D magnesium alloy microarc oxidation current frequency morphology corrosion resistance wear resistance

丙酮环境下ECR微波等离子体辅助化学气相沉积类金刚石薄膜研究

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物理学报 2004年第9期53卷 3099-3103页

作者：杨武保王久丽张谷令范松华刘赤子杨思泽中国科学院物理研究所石油大学(北京)材料科学与工程系北京102249

利用电子回旋共振 (ECR)微波等离子体辅助化学气相沉积技术、工作气氛为丙酮 ,在光学玻璃衬底上得到了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜 .在工艺研究中 ,对等离子体中氧的存在及其作用进行了分析 .原子力显微镜分析表明 ,薄膜的表面粗糙... 详细信息

利用电子回旋共振 (ECR)微波等离子体辅助化学气相沉积技术、工作气氛为丙酮 ,在光学玻璃衬底上得到了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜 .在工艺研究中 ,对等离子体中氧的存在及其作用进行了分析 .原子力显微镜分析表明 ,薄膜的表面粗糙度小于 1 0nm ,晶粒尺寸约为 1 0 0nm .拉曼光谱和中红吸收谱研究发现 ,薄膜具有强烈的荧光效应 ,含有sp1 ,sp2 ,sp3杂化C—C ,sp3杂化CH3,羰基CO、含氧多元环以及—COOH基等 .利用纳米力学探针以及近红区红外透射谱分析了薄膜的力学及光学性能 ,结果表明 ,薄膜的显微硬度接近 4GPa ,体弹性模量约为 1 1GPa ;薄膜在近红区完全没有吸收峰 ,折射系数为 1 .5 76 ;根据薄膜干涉花样 ,计算薄膜的沉积速率为 4 6 0nm h .

关键词：类金刚石薄膜丙酮气氛红外光谱电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积法

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民族院校大学物理教学的探索与拓展研究

民族教育研究 2014年第4期25卷 42-48页

作者：苏玉成张谷令朱民邹斌陈笑中央民族大学理学院北京100081

民族院校的理工科学生之间存在着较大的背景差异。在大学物理教学中,这种差异体现在学生对物理概念理解的差异性和物理实验技能的差异性。笔者在大学物理教学中,通过入学后的摸底考试和问卷调查、师生访谈、概念题检测以及分小组互助教... 详细信息

民族院校的理工科学生之间存在着较大的背景差异。在大学物理教学中,这种差异体现在学生对物理概念理解的差异性和物理实验技能的差异性。笔者在大学物理教学中,通过入学后的摸底考试和问卷调查、师生访谈、概念题检测以及分小组互助教学等方法来研究学生的差异性,为有的放矢的大学物理教学奠定了基础,效果明显。在拓展研究方面,笔者通过问卷设计、调研组织、问卷回收、数据录入和数据分析等工作,调研了民族院校学生的高中物理实验背景及大学物理的理论与实验教学现状,与中央民族大学的相应环节进行了对比分析,并且提出了对策与建议。

关键词：民族院校大学物理教学差异性拓展研究

非贵金属催化电极Ni/C@CF的制备及绿色类Fenton性能

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高等学校化学学报 2024年第2期45卷 125-132页

作者：成施雨杨灵包芮于陈宸崔萌萌张谷令李华中央民族大学民族地区生态环境国家民委重点实验室北京100081 中央民族大学生命与环境科学学院北京100081 中央民族大学理学院北京100081

传统芬顿(Fenton)法利用Fe2+催化H_(2)O_(2)产生具有强氧化性的羟基自由基(•OH),可以高效氧化降解水中有机污染物,但其操作pH范围窄(pH≈3)和易产生铁絮凝沉淀的缺点限制了其应用发展.原子氢H*作为一种单电子供体,可以将电子快速转移到H... 详细信息

传统芬顿(Fenton)法利用Fe2+催化H_(2)O_(2)产生具有强氧化性的羟基自由基(•OH),可以高效氧化降解水中有机污染物,但其操作pH范围窄(pH≈3)和易产生铁絮凝沉淀的缺点限制了其应用发展.原子氢H*作为一种单电子供体,可以将电子快速转移到H_(2)O_(2)中,生成•OH,适用于广泛的pH值,没有铁污泥产生,是一种新型高效绿色芬顿法.然而,原子H*更易相互结合形成H_(2),极不稳定,因此,探索合适的电催化剂对H*绿色Fenton的应用起着至关重要的作用.本文以炭黑作为载体,通过液相还原法制备了具有催化活性高、性能稳定的Ni/C@碳毡(Ni/C@CF)非贵金属电催化材料,制备的Ni纳米粒子均匀分散在炭黑上.以此电极材料为阴极,构建绿色Fenton催化体系,能够催化H_(2)O和H+生成H*,进而催化H_(2)O_(2)产生•OH,高效降解去除水中抗生素污染物.通过调节制备方法、电压、溶液pH值及外加氧化剂量,确定了该体系下的最佳反应条件.

关键词：芬顿反应原子氢 Ni/C@CF材料电催化有机污染物

脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析

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物理学报 2003年第1期52卷 140-144页

作者：杨武保范松华刘赤子张谷令王久丽杨思泽中国科学院物理研究所北京100080

利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜 .工艺研究表明 :放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用 .利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能... 详细信息

利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜 .工艺研究表明 :放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用 .利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能量损失谱分析薄膜的形态结构表明 :薄膜具有典型的类金刚石特征 ;纳米类金刚石膜的晶粒尺寸小于 2 0nm甚至为非晶态 ;类金刚石膜中含有一定量的氮原子 ,随着沉积能量的升高 ,氮的含量增大 .纳米类金刚石膜的薄膜电阻超过 10 9Ω cm2 .对放电溅射过程进行了理论分析 ,结果与工艺研究的结论吻合 .

关键词：脉冲高能量密度等离子体法制备 PHEDP法类金刚石膜拉曼光谱扫描电镜

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非平衡磁控溅射法类金刚石薄膜的制备及分析

物理学报 2005年第10期54卷 4944-4948页

作者：杨武保范松华张谷令马培宁张守忠杜健石油大学(北京)机电工程学院北京102249 中国科学院物理研究所北京100080 北京丹普表面技术公司北京100096

利用非平衡磁控溅射物理气相沉积技术制备了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜.分析沉积工艺参数对所得类金刚石薄膜的电学特性的影响以及溅射粒子的大小、能量、碰撞及沉积过程中的相变机理后认为溅射粒子越小、与环境气体分子的碰撞次... 详细信息

利用非平衡磁控溅射物理气相沉积技术制备了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜.分析沉积工艺参数对所得类金刚石薄膜的电学特性的影响以及溅射粒子的大小、能量、碰撞及沉积过程中的相变机理后认为溅射粒子越小、与环境气体分子的碰撞次数越多、与衬底相互作用时具有适当动量等,能够有效提高薄膜中sp3杂化碳原子的含量.利用拉曼光谱、纳米力学探针、红外光谱、扫描电镜等分析了所得类金刚石膜的结构、力学及光学性能、表面形貌等特征.结果表明,类金刚石膜中sp3杂化碳原子的含量较高,显微硬度大于11GPa,薄膜光学透过率达到89·4%,折射系数为1·952,沉积速率为0·724μm/h,表面光滑、致密、均匀,不存在明显的晶粒特征.

关键词：非平衡磁控溅射类金刚石膜拉曼光谱红外光谱类金刚石薄膜磁控溅射法制备气相沉积技术力学探针表面光滑

高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析

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物理学报 2006年第1期55卷 351-356页

作者：杨武保范松华戈敏张谷令沈曾民杨思泽中国石油大学机电学院北京102249 中国科学院物理研究所北京100080 北京化工大学碳纤维研究所北京100029

利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上,在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明,衬底材料对制备该新型... 详细信息

利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上,在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明,衬底材料对制备该新型纳米碳膜具有关键作用,离子能量、工作压力及气氛等工艺因素也具有重要作用.原子力显微镜分析结果表明,该薄膜晶粒尺寸小于100nm,薄膜光滑、致密、均匀.拉曼光谱分析显示,该薄膜的拉曼光谱特征为中心峰在1580cm-1附近、显著宽化的单一峰.欧姆计测量表明该薄膜的薄膜电阻为1·6×104Ω/cm2.利用纳米力学探针测得该纳米碳膜的显微硬度为21·38GPa,体弹性模量为420·65GPa.

关键词：高能等离子体 CVD法纳米碳膜衬底材料

Double Temperature and Density Phenomenon in Grid Enhanced Plasma Source Ion Implantation for Inner Surface Modification of Tubes

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Plasma Science and Technology 2009年第5期11卷 555-559页

作者：张谷令王久丽贾莹邹斌杨思洋 School of Sciences Central University for Nationalities Institute of Physics Chinese Academy of Sciences

Inner surface coating for tubular samples was realized by the grid enhanced plasma source ion implantation （GEPSII） method. In the GEPSII system, two electrodes, a central rod electrode and a coaxial grid electrode were coaxially assembled inside the tube. Plasma was generated between the electrodes by a radio-frequency （RF） oscillating power source. Plasma then diffused through the grid and realized inner surface ion implantation by a negative high voltage applied to the tube. The plasma was then divided, by the grid, into two regions, namely the source plasma region and the diffused plasma region. The plasma＇s self-bias between two RF power source electrodes was measured. At the same time, the electron temperature and plasma density in the GEPSII system were measured by a scattering spectrometer. Results showed that the plasma properties of the two regions were entirely different; the plasma self-bias, which might greatly affect the sputtering rate of the central titanium electrode, depended on the electrode structure, gas pressure and RF power.

关键词： PSII grid inner surface TiN