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基于摩擦学的沙尘环境的研究
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润滑与密封 2004年 第6期29卷 49-51页
作者: 武通海 刁东风 谢友柏 西安交通大学润滑理论与轴承研究所 西安710049
针对现代机械产品在沙尘环境中的适应性问题 ,提出了基于摩擦学的沙尘环境分析法 ,并应用此方法进行了实验 ,采用干沉积法收集了西安市 4~ 6月份室外日常降尘以及一次沙尘暴降尘 ;使用感量为 0 1mg的电子天平测量了降尘的沉积通量 ,并... 详细信息
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超薄纳米薄膜的划痕硬度评价方法及应用
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深圳大学学报(理工版) 2019年 第5期36卷 510-518页
作者: 范雪 刁东风 深圳大学纳米表面科学与工程研究所 广东深圳518060 广东省微纳光机电工程重点实验室 广东深圳518060
纳米压痕是一种常用的薄膜硬度评价方法.然而,当薄膜厚度<10 nm时,该方法难以去除基体对薄膜硬度的影响,因而无法获得薄膜自身的硬度,限制了纳米结构与硬度之间关系的认知,阻碍了超薄纳米结构薄膜的应用.本研究提出一种基于纳米压痕硬... 详细信息
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沙尘粒子对轮-铲摩擦学系统的侵入机制分析
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摩擦学学报 2008年 第2期28卷 184-188页
作者: 武通海 刁东风 西安交通大学现代设计及轴承转子系统教育部重点实验室 陕西西安710049
以自动取款机的轮-铲摩擦学系统为研究对象,建立了无黏着刚性接触条件下理想球形粒子侵入轮-铲摩擦学系统的静力学计算模型;分析了单个粒子在完整侵入过程中所受的侵入力及其临界侵入条件和侵入运动方式;进一步探讨了粒子在黏着摩擦作... 详细信息
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自动取款机摩擦学系统在沙尘环境中的磨损特性研究
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摩擦学学报 2005年 第5期25卷 466-469页
作者: 武通海 刁东风 谢友柏 西安交通大学润滑理论及轴承研究所 陕西西安710049
模拟塔克拉玛干沙漠的沙尘环境,对(ATM)自动取款机摩擦学系统进行了磨损试验,分析了聚酰亚胺(P I)和聚萘二甲酸乙二酯(PEN)高聚物薄带在3种载荷以及有无纸币基体情况下的沙尘磨损性能和机理.结果表明:P I薄带的抗沙尘磨损能力较PEN薄带... 详细信息
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表面纹理磁盘滑动接触的温度和应力及退磁临界条件的研究
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摩擦学学报 2006年 第5期26卷 461-466页
作者: 刘金依 刁东风 谢友柏 西安交通大学现代设计及转子轴承系统教育部重点实验室 陕西西安710049
采用应力场和温度场耦合的有限元方法,计算磁头/磁盘滑动接触下铝基磁盘磁层内瞬态温度场和应力场及退磁临界条件,分析接触压力、滑动速度、摩擦系数以及磁盘表面纹理对磁层内最大摩擦温升值和最大应力值的影响.结果表明:波形纹理表面... 详细信息
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PEN薄带在沙尘环境中磨粒磨损分形特征研究
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摩擦学学报 2006年 第3期26卷 279-283页
作者: 武通海 刁东风 谢友柏 西安交通大学现代设计及转子轴承系统教育部重点实验室 陕西西安710049
选取聚萘二甲酸乙二酯(PEN)薄带在ATM自动取款机摩擦学系统中进行了沙尘磨粒磨损试验,利用表面形貌仪以一定时间间隔测量薄带磨损形貌,采用结构函数法考察磨损形貌的分形特征,并利用扫描电子显微镜分析其磨损机理.结果表明:经过沙尘磨... 详细信息
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两种高聚物薄带的沙尘磨损特性研究
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润滑与密封 2006年 第1期31卷 11-13页
作者: 武通海 刁东风 谢友柏 西安交通大学润滑理论与轴承研究所 陕西西安710049
首次开展了ATM(Auto TellerMachine)高聚物部件在沙尘环境中的磨损研究。在实验室模拟降尘环境中使用ATM中的Tape-scraper摩擦系统,对PI(聚酰亚胺)和PEN(聚萘二甲酸乙二酯)两种高聚物薄带的磨损行为进行了研究,并利用扫描电镜对薄带的... 详细信息
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磁头/磁盘滑动接触下磁盘温度及热退磁临界条件的研究
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摩擦学学报 2005年 第5期25卷 451-455页
作者: 刘金依 刁东风 谢友柏 西安交通大学现代设计及转子轴承系统教育部重点实验室 陕西西安710049
采用二维轴对称有限元模型计算磁头/磁盘滑动接触下,铝质磁盘的稳态温度和热应力场以及热退磁临界条件.结果表明:磁盘温度在极短时间内升至摩擦稳态值,然后缓慢线性升高到最终稳态值;经过充分热传导和热交换后磁盘的温度梯度较小,此时... 详细信息
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纳米粒子气膜承载能力研究
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机械工程学报 2013年 第14期49卷 51-58页
作者: 刁东风 杨志儒 范红艳 范雪 西安交通大学机械工程学院 西安710049 西安交通大学现代设计与转子轴承系统教育部重点实验室 西安710049
利用自行研制的纳米粒子气膜承载能力测试平台,将粒径30 nm的SiO2球形纳米粒子添加到气体推力轴承中形成45μm厚纳米粒子气膜,研究不同纳米粒子体积分数对气膜承载能力的增强效果与作用机理。通过测试纳米粒子添加前后气膜承载能力和压... 详细信息
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基片偏压对MCECR溅射硬碳膜特性的影响
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光子学报 2005年 第5期34卷 734-736页
作者: 蔡长龙 刁东风 三宅正司 松本武 西安工业学院光电工程学院 西安710032 西安交通大学机械工程学院 西安710049 大阪大学熔接研究所 日本大阪5670047
采用封闭式电子回旋共振(MCECR)氩等离子体溅射碳靶的方法在硅片上沉积了高质量的硬碳膜,膜层厚度约40nm. 使用X射线光电子能谱仪(XPS)和高分辨率透射电子显微镜(HRTEM)分析了碳膜结构,并用POD摩擦磨损仪测试了碳膜的摩擦磨损特性,用纳... 详细信息
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