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分布式I/O系统控制在熔化炉水冷系统上的应用

分布式I/O系统控制在熔化炉水冷系统上的应用

作     者:马杨军 王建红 

作者单位:东风锻造有限公司铸造厂 

会议名称:《聚焦新质生产力 加快铸造行业高质量发展——第二十届中国铸造协会年会》

会议日期:1000年

学科分类:080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0802[工学-机械工程] 080201[工学-机械制造及其自动化] 

关 键 词:分布式I/O 熔化炉水冷系统 PROFINET TIA PORTAL V15 

摘      要:本文介绍了我厂熔化炉水冷系统的工艺布局,详细阐述系统控制方案是通过西门子ET 200SP分布式I/O,分布式I/O与控制器之间采用的是Profinet通讯,通过软、硬件的组态和系统程序。ET 200SP分布式I/O控制器的选择是基于S7-1500系列的CPU,PLC的编程和硬件配置以及网络全部在TIA PORTAL V15中完成,并组态了KTP700 Basic PN触摸屏,为此实现了熔化炉水冷系统的可靠运行。

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