TI-N系薄膜结构的电镜研究
会议名称：《海峡两岸电子显微学讨论会》
会议日期：1991年
学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学]
摘 要：正 薄膜是当前新材料发展的重要前沿领域,在新技术领域有着广泛的应用。薄膜的结构特别是界面状态,对于其性能有着重要影响。X射线衍射分析能给出膜的相组成,但却无法判定这些相的空间组态及分布。在这个问题上,电子显微术具有独特的优点。然而,由于制样难度大,时至今日,薄膜横截面的电镜研究,仍不多见。八十年代以来,我们开展了Ti-N系薄膜结构的电镜研究,先后研究了带Ti底层TiN膜（简称单层TiN膜）,加入合金元素的Ti-B-N,（Ti,Al,V）N和Ti（C,N）膜,以及Ti-N多层膜。本文是这方面工作的系统总结。