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碳钛颗粒膜电子发射特性研究

碳钛颗粒膜电子发射特性研究

作     者:任雯 梁海锋 蔡长龙 

作者单位:西安工业大学光电学院 

会议名称:《中国光学学会2011年学术大会》

会议日期:2011年

学科分类:0810[工学-信息与通信工程] 08[工学] 081001[工学-通信与信息系统] 

关 键 词:碳钛颗粒膜 表面传导电子发射 场发射 

摘      要:本文介绍了碳钛颗粒膜应用于表面传导电子发射显示器中的电子发射特性。在试验中,使用磁控溅射沉积碳钛颗粒膜,并且改变其工作气压,碳钛比及功率进行研究,获得了25个样品,进行膜厚,电阻率及组分比的测试。碳钛颗粒膜使用磁控溅射在距离10um的两电极间沉积了不同的厚度。经过电形成后,碳钛颗粒膜出现了表面传导电子发射显示器所需的微纳米结构。在阳极电压和器件电压的作用下,可以观察到稳定和均匀的电子发射。根据F-N所得的I e V f特性曲线显示电子发射器件是场发射。

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