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Co/Cu多层膜层间耦合作用的调节

Co/Cu多层膜层间耦合作用的调节

作     者:王利东 孙兴林 姜宏伟 郑鹉 王艾玲 刘丽峰 

作者单位:首都师范大学物理系 

会议名称:《第六届中国功能材料及其应用学术会议》

会议日期:2007年

学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0702[理学-物理学] 

基  金:北京市教委科技发展基金(KM200710028005) 

关 键 词:Co/Cu RKKY 剩磁比 巨磁电阻 

摘      要:利用在 Fe(5nm)/[Co,Cu]多层膜的隔离层(Cu) 中掺入磁性元素 Co,引入与相邻 Co 层之间反铁磁的 RKKY 作用相竞争的直接的铁磁耦合作用,降低了相邻 Co 层间的交换耦合作用.在 Cu 层中掺入不同原子数比例的磁性元素时,饱和磁场有所降低,从而提高了多层膜对外磁场变化的灵敏度.

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