多孔纳米晶氧化硅基薄膜的等离子体沉积与应用
作者单位：东华大学理学院
会议名称：《第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医...》
会议日期：2013年
学科分类：07[理学] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 070204[理学-等离子体物理] 0702[理学-物理学]
基 金：自然科学基金的支持(10835004 and 10775031)
关 键 词：PE隔膜 等离子体沉积 Si/SiOx薄膜 多孔结构 脉冲偏压
摘 要：常压射频等离子体对反应性气体裂解效率高,辅以脉冲或者偏压调制,可以较好的调控沉积薄膜的结构形貌,由于沉积温度较低,在有机无机复合薄膜制备方面具有较好的应用性,如提高锂离子电池动力汽车聚乙烯(PE)隔膜的耐温性等。本文研究了偏压对射频等离子体沉积Si/SiOx薄膜孔隙率的影响,如图1所示,发现随着偏压的提高,Si/SiOx沉积薄膜的孔隙率有较大幅度提高,薄膜由纳米晶颗粒串联连接而成。射频等离子体经过脉冲调制后,应用于HMDS0放电沉积和PE隔膜材料的涂敷,发现经过放电沉积改性的PE隔膜表面的水接触角明显减小,可以耐受2hr 90℃和10min 130℃热处理,耐温特性明显提高。初步研究结果显示,常压等离子体沉积是低成本制备高性能有机无机复合多孔膜的有效途径。