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Ultrahigh Density Nanosphere Lithography

Ultrahigh Density Nanosphere Lithography

作     者:Jun YUAN Peiwen WU Jun QIAN Yiqun ZHAO Xinling TUO Xiaogong WANG School of Materials Science and Engineering,Tsinghua University,Beijing,100084,CHINA 

会议名称:《2005年纳米和表面科学与技术全国会议》

会议日期:2005年

学科分类:07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 0702[理学-物理学] 

摘      要:Self-organization of monodispersed nanospheres can be used to create a large-scalelithography template for nanostructure *** have investigated theapplication of polystyrene based nanosphere lithography in the study of ultrahighdensity magnetic quantum *** can demonstrate the limitation of current

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