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直接敷铜陶瓷基板技术的研究进展

直接敷铜陶瓷基板技术的研究进展

作     者:卢会湘 胡进 王子良 

作者单位:中国电子科技集团公司第五十五研究所 

会议名称:《2010’全国半导体器件技术研讨会》

会议日期:2010年

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 

关 键 词:集成电力电子模块 直接敷铜 氮化铝 基板 敷合 

摘      要:功率模块以及集成电力电子模块(integrated power electronics module,IPEM)的发展带动直接敷铜(direct bonded copper,DBC)基板技术的迅猛发展。详细介绍了DBC基板技术的技术原理与技术路线,通过机理的分析,指出重点,然后分别讲述了AlO-DBC和AlN-DBC基板制备的关键技术、解决方向以及一些最新的研究进展和研究方向,结合实例说明了DBC技术的应用前景,并指出了今后的发展方向。

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