宽带隙缓冲层CuI薄膜的制备和性能研究
作者单位：中国钢研科技集团公司安泰科技股份有限公司
会议名称：《2009中国功能材料科技与产业高层论坛》
会议日期：2009年
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：北京市自然科学基金的资助
摘 要：采用喷射沉积工艺在普通玻璃和CuInS2(CIS)基底上制备出可见光区域平均透过率达78.9%沿[111]晶向择优取向生长,具有γ态立方闪锌矿结构的CuI薄膜。采用喷射沉积制备CuI薄膜是一种有益的尝试,宽带隙结构的CuI薄膜作为缓冲层不仅能增加可见光范围内蓝色波段利用率,而且价格低廉、无毒,所获结果对实际工艺条件的选择具有一定借鉴作用和参考价值。
