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阴极刻蚀和覆膜的应用研究

阴极刻蚀和覆膜的应用研究

作     者:马静 王玉春 谢宏芳 谢启辉 陆为元 

作者单位:三乐集团有限公司电子器件研究所 

会议名称:《第九届真空技术应用学术年会》

会议日期:2006年

学科分类:080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 

关 键 词:刻蚀 覆膜 覆膜阴极 发射性能 

摘      要:本文阐述了刻蚀和涂覆的重要作用。通过大量的条件实验确定合适的刻蚀和覆膜工艺及检验手段,进一步比较不同厚度、不同材料膜层的阴极发射性能的比较。

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