基于数码印花的光谱预测模型研究
作者单位:杭州电子科技大学
学位级别:硕士
导师姓名:王强
授予年度:2017年
学科分类:0821[工学-纺织科学与工程] 08[工学] 082103[工学-纺织化学与染整工程]
摘 要:数码印花技术是移动互联时代纺织工业应对和解决个性化定制和小批量纺织品制造需求的关键技术。而将基于光谱的色彩高保真技术与数码印花技术融合,通过建立光谱预测模型来解决不同承印物,染料呈色机理以及生产工艺中的颜色预测难题,是数码印花技术中确保数码印花颜色一致性的关键。本文以数码印花图像的光谱反射特性作为研究对象,以色料减色法作为研究的理论基础,结合活性染料的呈色特性与喷墨打印的加网方式,建立基于数码印花的光谱预测模型,实现数码印花设备输出颜色与目标颜色的光谱匹配,完成正向预测与反向预测的双向光谱预测,构建完整的数码印花光谱预测系统。实验结果表明:本文提出的基于数码印花的光谱预测模型其正向预测的光谱精度和色度精度均优于YNSN模型和CYNSN模型,且该模型消除了YNSN模型和CYNSN模型预测时,因基色数量过多而导致的空间复杂度激增的缺陷,其反向预测的分色精度和网点预测误差均优于基于色度的多项式回归模型,RBF神经网络模型以及纽介堡反向模型。本文的主要创新在于将高保真颜色复制技术与数码印花技术进行跨领域的技术融合,将光谱预测原理与数码印花的设备、材料与工艺等特点相结合,采用光谱分析、多项式回归分析、特征光谱提取等多种科学合理的技术方法与手段,建立起基于数码印花的光谱预测模型,为数码印花高保真颜色复制技术的探索与研究做出一定贡献。