咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >中国锦屏地下实验室极低本底装置屏蔽和氡及子体影响研究 收藏
中国锦屏地下实验室极低本底装置屏蔽和氡及子体影响研究

中国锦屏地下实验室极低本底装置屏蔽和氡及子体影响研究

作     者:胡永安 

作者单位:东华理工大学 

学位级别:硕士

导师姓名:刘义保;曾志

授予年度:2014年

学科分类:07[理学] 070401[理学-天体物理] 0704[理学-天文学] 

主      题:暗物质 极低本底装置 AlphaGuard电离室测氡仪 锦屏地下实验室 

摘      要:暗物质得到了国际上很多顶尖科学家的关注,并且提出了一系列测量暗物质的方法,主要包括:间接法和直接法测量暗物质,然而这些测量暗物质的实验方法必须在一个本底非常低的情况下才有可能测量到暗物质,所以世界上有许多实验组为了给测量暗物质提供良好的测量环境都把实验室从地上搬到地下,这样做的主要目的是为了屏蔽宇宙射线的干扰。而我国锦屏地下实验室正好做到了这一点,本次论文主要研究的是屏蔽体材料及大厅中的氡浓度对极低本底装置的影响,本论文研究了以下几点:(1)本文研究了铅铜屏蔽体中放射性核素对极低本底装置的影响,分别模拟了铅、铜中238U系、232Tu系、40K对极低本底装置的影响;(2)本文通过使用Alpha Guard电离室测氡仪测量了实验大厅中的氡浓度,探讨了在其他条件一致的情况下,通风设备对实验大厅中氡浓度的影响,同时用高纯锗探测器测量了低本底装置中的氡及氡子体的γ射线,探讨了实验大厅氡浓度对极低本底装置的影响;(3)根据高纯锗探测器探测出的氡子体214Pb(351.9ke V)的计数率,并根据测量时氡及子体处于长期平衡计算出样品腔中氡含量,根据计算的结果讨论了试验大厅中氡浓度对极低本底装置的影响。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分