Si_3N_4陶瓷轴承内圈NCD膜制备中的热流耦合分析
Heat-flux Coupling Simulation during the Process of Growing NCD Film on Si_3N_4 Bearing Inner Ring作者机构：南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室南京210016
出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)
年 卷 期：2009年第38卷第3期
页 面：642-647页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金资助项目(No.50605032) 江苏省自然科学基金资助项目(No.BK2006189No.BK2007193)
摘 要：本文设计了一套用于HFCVD系统中轴承内圈NCD涂层制备的电极装置,同时在热交换过程的分析基础上对该系统进行了热流耦合分析。对进气参数进行优化后,衬底温度场及气体流场分布均匀。在数值分析的基础上,在氮化硅陶瓷内圈上成功制备了NCD膜。
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