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共蒸法制备非均匀膜的速率控制分析

Analysis of Deposition Rate of Inhomogeneous Coatings Prepared by Co-Evaporation

作     者:沈自才 王英剑 范正修 邵建达 Shen Zicai;Wang Yingjian;Fan ZhengXiu;Shao Jianda

作者机构:中国科学院上海光学精密机械研究所 

出 版 物:《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期:2005年第25卷第4期

页      面:561-566页

核心收录:

学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

主  题:薄膜光学 非均匀膜 渐变折射率 德鲁德理论 

摘      要:渐变折射率薄膜,又称为非均匀膜。利用德鲁德理论分析了混合介质膜的介电常量与各个膜料的介电常量之间的关系,介绍了共蒸法制备非均匀膜的制备机理。对混合膜的沉积速率为两种膜料的沉积速率之和的情况,分别从两种膜料的单分子体积是否相等和总的沉积速率是否为常数两个方面,探讨了双源共蒸法制备的非均匀膜的折射率分布规律与膜料的沉积速率之间的关系,并给出了几种常见的折射率分布如线性变化、正弦变化、指数变化和双曲变化规律的膜料沉积速率表达式。最后以混合介质膜的总沉积速率为常数、折射率按照线性变化为例进行了说明。

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