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飞高对叠瓦式存储系统的性能影响分析

Analysis of Impact of Fly Height on Shingled Magnetic Recording System Performance

作     者:谢国强 XIE Guoqiang

作者机构:赣南师范大学数学与计算机科学学院江西赣州341000 

出 版 物:《赣南师范大学学报》 (Journal of Gannan Normal University)

年 卷 期:2020年第41卷第6期

页      面:75-78页

学科分类:08[工学] 081201[工学-计算机系统结构] 0812[工学-计算机科学与技术(可授工学、理学学位)] 

基  金:国家自然科学基金项目(31660321) 江西省数值模拟与仿真技术重点实验室开放课题(2016-6)。 

主  题:叠瓦式磁记录 交换耦合介质 飞高 写场分布 

摘      要:叠瓦式磁记录和交换耦合介质相结合是提高磁记录面密度的有效方法,飞高作为磁头设计中的主要参数之一,对系统记录性能有显著影响.本文介绍叠瓦式写磁头的结构设计,分析交换耦合介质翻转场对写入误差的影响,计算不同飞高下的写磁头磁场分布、强度和梯度.仿真结果显示飞高为10nm时,写磁头能产生的写场强度为17.51kOe,梯度为528Oe/nm,可以在提供足够大写场强度的同时获得较高的梯度,降低写入误差,提高系统性能.

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