光敏聚苯并噁唑的研究现状与发展趋势

作     者：王涛 李金辉 赵雅绪 朱良 张少霞 张国平 孙蓉 汪正平 WANG Tao;LI Jinhui;ZHAO Yaxu;ZHU Liang;ZHANG Shaoxia;ZHANG Guoping;SUN Rong;WONG Chingping

作者机构：中国科学院深圳先进技术研究院深圳先进电子材料国际创新研究院深圳518055 中国科学院大学北京100049 佐治亚理工学院材料科学与工程学院亚特兰大30332 

出 版 物：《材料导报》 (Materials Reports)

年 卷 期：2020年第34卷第19期

页      面：19183-19189页

核心收录：

学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

基　　金：深圳市基础研究项目(JCYJ20160331191741738) 国家自然科学基金-广东省联合基金(U1601202) 国家自然科学基金-深圳市机器人联合基金(U1613215) 中国博士后科学基金(2018M640840) 科技部国家重点研发项目(2017ZX02519) 国家自然科学基金(61904191) 

主　　题：耐热光敏聚合物 光敏聚苯并噁唑 低温固化 介电 半导体封装 

摘      要：作为耐热光敏绝缘介质材料的典型代表之一,光敏聚苯并噁唑(PSPBO)具有优异的力学性能、耐热性能、绝缘性能、低吸水率、低介电常数及突出的光刻成型能力,被广泛应用于微电子、航空航天等重要领域。特别地,在集成电路半导体封装中,光敏聚苯并噁唑被广泛应用于层间介质材料、应力缓冲层及保护层等,是扇出型封装等先进制程的关键材料。另外,随着5G高频高速通信、柔性显示、OLED等领域的快速发展,产业界对该类材料提出了更高的要求,比如低温固化、高粘结强度、低介电常数、导热等。更为重要的是,我国尚未掌握该材料的核心技术。本文综述了光敏聚苯并噁唑的发展概况和最新的研究进展,包括正性光敏聚苯并噁唑、负性光敏聚苯并噁唑以及光敏聚苯并噁唑的应用发展,最后对其发展前景进行了展望,以期为我国光敏聚苯并噁唑等耐热光敏聚合物基础研究与产业应用提供参考。