毫米波速调管电子光学系统的研究

作     者：冯海平 韦莹 孙福江 杨继涛 Feng Haiping;Wei Ying;Sun Fujiang;Yang Jitao

作者机构：北京真空电子技术研究所北京100016 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2020年第32卷第10期

页      面：95-99页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 

基　　金：预研项目(315120101) 

主　　题：Ka波段 W波段 电子光学系统 电子枪 聚焦系统 

摘      要：电子光学系统是毫米波速调管长寿命和整管性能实现的关键,毫米波速调管零件尺寸较小,为了在Ka波段和W波段实现千瓦量级的输出功率,要求具有高的电子注通过率及低的阴极负荷。对Ka波段和W波段电子光学系统特性进行了分析,确定了Ka波段10 kW分布作用速调管和W波段1 kW分布作用速调管电子光学系统的设计方案,利用软件对电子枪和聚焦系统的结构进行计算,并采用CST仿真软件对设计的电子枪发射的电子注在聚焦磁场中的状态进行优化。设计出的Ka波段速调管电子光学系统,电子枪工作电压26 kV,发射电流2 A,互作用区长度30 mm,磁场强度大于0.6 T,流通达到100%。设计的W波段速调管电子光学系统,电子枪工作电压17 kV,电流0.65 A,互作用区长度20 mm,磁场大于0.9 T,流通达到100%。已制成Ka波段速调管和W波段速调管,设计的电子光学系统能够满足速调管工程化需求。