籽晶处理工艺对物理气相传输法生长SiC单晶的影响

作     者：戴培赟 史永贵 杨建锋 刘光亮 程基宽 DAI Peiyun;SHI Yonggui;YANG Jianfeng;LIU Guangliang;CHENG Jikuan

作者机构：西安交通大学金属材料强度国家重点实验室西安710049 

出 版 物：《硅酸盐学报》 (Journal of The Chinese Ceramic Society)

年 卷 期：2010年第38卷第8期

页      面：1426-1429页

核心收录：

学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 0817[工学-化学工程与技术] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金(50772086,50821140308) 国家“863”计划(2007AA03Z558)资助项目 

主　　题：碳化硅单晶 晶体生长 物理气相传输法 籽晶 

摘      要：将块体SiC单晶中切割下的晶片经研磨、抛光和腐蚀不同工艺处理后作为籽晶,用物理气相传输法生长SiC晶体,生长时间为10min。用光学显微镜观察晶片生长前后的形貌,讨论了不同处理工艺籽晶对晶体生长的影响。结果表明,研磨和抛光可以去除晶体切割时产生的凹坑和划痕,但残留的研磨变质层和抛光导致的机械损伤层可诱导晶片在高温晶体生长时产生多晶成核,腐蚀可以去除研磨和抛光时产生的机械损伤层,用腐蚀后的晶片作为籽晶,生长的晶体表面光滑,并且能够很好地复制籽晶的结构。