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Control of arsenic Pollution from waste gases during fabrication of semiconductor

Control of arsenic Pollution from waste gases during fabrication of semiconductor

作     者:Wen Ruimei Liang Junwu Deng Lisheng Peng Yongqing(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences Beijing 100083,China) 

出 版 物:《Journal of Environmental Sciences》 (环境科学学报(英文版))

年 卷 期:1994年第6卷第1期

页      面:123-127页

核心收录:

学科分类:083002[工学-环境工程] 0830[工学-环境科学与工程(可授工学、理学、农学学位)] 08[工学] 

主  题:Semiconductoro arsenic pollution abatement. 

摘      要:The abatement technology of toxic arsenic pollution during fabrication of semiconductormaterials and devices has been studied.

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