Z型BiVO4/GO/g-C3N4复合材料的制备及其可见光下催化性能
Fabrication of Z-scheme BiVO4/GO/g-C3N4 Photocatalyst with Efficient Visble-light Photocatalytic Performance作者机构:天津工业大学环境科学与工程学院天津300389 天津工业大学化学化工学院天津300389
出 版 物:《无机材料学报》 (Journal of Inorganic Materials)
年 卷 期:2020年第35卷第7期
页 面:839-846页
核心收录:
学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:National Natural Science Foundation of China(51772208,51678409) Natural Science Foundation of Tianjin(17JCYBJC15900)
主 题:BiVO4 g-C3N4 GO 三元催化剂 Z型异质结
摘 要:Z-型光催化剂可以有效增强电荷分离,从而改善光催化剂的活性。采用浸渍–煅烧和水热法两步制备Z型BiVO4/GO/g-C3N4光催化剂,并用不同手段对其进行表征。在BiVO4/GO/g-C3N4的光催化过程中,GO纳米片作为BiVO4和g-C3N4之间的快速传输通道,可以抑制电子–空穴复合,显著促进电荷分离,提高三元异质结的氧化还原能力。与单组分或二元复合物相比,该催化剂具有良好的光降解罗丹明B(RhB)的能力。在可见光照射下,它能够在120 min内降解85%RhB,空穴(h+)在反应中起主要作用。该工作为三元光催化剂体系提供了简单的制备方法,其中g-C3N4通过GO与BiVO4偶联,光催化活性显著提高。