纳米厚度薄膜外差椭偏测量技术的研究

作     者：邓元龙 姚建铨 阮双琛 孙秀泉 王鹏 DENG Yuan-long;YAO Jian-quan;RUAN Shuan-chen;SUN Xiu-Quan;WANG Peng

作者机构：天津大学精密仪器学院激光及光电子研究所天津300072 深圳大学工程技术学院深圳518060 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：2005年第31卷第3期

页      面：391-393页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：广东省自然科学基金(031809) 广东高校自然科学研究项目(Z02062) 深圳大学校级科研项目 

主　　题：光学测量 薄膜 外差干涉法 椭偏测量术 声光调制器 纳米精度 

摘      要：结合激光外差干涉法和透射式椭偏测量原理,研究了一种快速、高精度测量纳米厚度薄膜光学参数的方法。计算并分析了复灵敏度因子随薄膜参数和入射角度的变化规律、椭偏参数的选择及容许测量误差。两个声光调制器产生20kHz的拍频,采用简单的直接比相方法即可获得优于0.1°的相位分辨率,而且测量系统中没有使用任何波片和运动部件,抗干扰能力强且测量过程完全自动化,适用于工业现场在线连续测量。实验数据和理论分析表明,此方法可以达到亚纳米级测量精度。