咨询与建议
  • 全部检索
  • 电子图书
  • 电子期刊
  • 纸本馆藏
  • 南通市公共图书馆
高级检索

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >试件栅刻蚀技术研究 收藏
分享

试件栅刻蚀技术研究

Specimen Grating Etching Techniques

作     者：石玲 戴福隆 Shi Ling;Dai Pulong(Tsinghua University)

作者机构：清华大学 

出 版 物：《实验力学》 (Journal of Experimental Mechanics)

年 卷 期：1996年第11卷第1期

页      面：18-23页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）] 080102[工学-固体力学] 

主　　题：试件栅 化学刻蚀 反应离子 云纹法 

摘      要：本文研究和实现了在试件表面直接涂布光刻胶制得振幅型低频栅和位相型高频全息栅的基础上，分别利用湿法化学腐蚀和反应离子刻蚀技术蚀刻试件栅的工艺。在几种不同材料的试件表面刻蚀出了试件栅，这种技术的实现使云纹干涉法和精细网格法在高温高压环境下的广泛应用成为可能。

电子资源

读者评论 与其他读者分享你的观点

学校读者
用户名:未登录
我的评分