微机电系统用TbCu_7型SmCo基薄膜的合成(英文)
Synthesis of TbCu_7-type Structural SmCo-based Films for Microelectromechanical System Applications作者机构：成都信息工程学院四川成都610225
出 版 物：《稀有金属材料与工程》 (Rare Metal Materials and Engineering)
年 卷 期：2013年第42卷第3期
页 面：462-465页
核心收录：
学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0806[工学-冶金工程] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0703[理学-化学] 0702[理学-物理学]
基 金：National Natural Science Foundation of China(61001025) Scientific Research Foundation of CUIT(KYTZ201112)
摘 要：微机电系统(MEMS)的发展要求Si基片上的永磁薄膜具有良好的热稳定性。采用磁控溅射工艺在单晶Si(100)基片上沉积了SmCo基永磁薄膜,研究了溅射参数对薄膜沉积速率、微观结构、晶体结构和磁性能的影响。结果表明:通过调整溅射参数可以获得TbCu7型结构的SmCo基永磁薄膜。该薄膜具有良好的晶粒取向和微观结构,因而获得了较好的面内磁性能,其反磁化过程主要受控于畴壁钉扎机制。
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