用自洽的蒙特卡罗—流体结合模型模拟溅射过程

作     者：张云驰 赵夔 张保澄 谢大林 唐渝兴 杨希 ZHANG Yun-chi;ZHAO Kui;ZHANG Bao-cheng;XIE Da-lin;TANG Yu-xing;YANG Xi

作者机构：北京大学重离子所北京大学技术物理系100871 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2000年第12卷第2期

页      面：196-200页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目 

主　　题：流体 薄膜 模拟 蒙特卡罗 溅射 

摘      要：采用自洽的蒙特卡罗 -流体结合模型对溅射过程进行模拟 ,以了解等离子体粒子行为与溅射参数的关系。溅射过程包括气体放电和溅射原子传输。对于气体放电 ,蒙特卡罗部分模拟快电子和快气体原子 ,而流体部分则描述离子和慢电子。对于溅射原子传输 ,蒙特卡罗部分模拟溅射原子的碰撞过程 ,而流体部分则描述溅射原子的扩散和漂移。模拟的结果包括 :等离子体粒子的密度和能量分布 ;不同电离机制对气体原子和溅射原子电离的贡献 ;不同等离子体粒子对阴极溅射碰撞的贡献 ;溅射原子的密度分布 ;溅射场和溅射粒子相对于入射离子能量和角度的分布 ;溅射原子经碰撞后在整个等离子体区的分布。