磁控溅射制备Al2O3薄膜及耐蚀性能研究
Preparation of Al2O3 thin films by magnetron sputtering and its corrosion resistance作者机构:西安航空学院材料工程学院
出 版 物:《功能材料》 (Journal of Functional Materials)
年 卷 期:2020年第51卷第2期
页 面:2209-2213页
核心收录:
学科分类:080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家级大学生创新创业训练计划资助项目(201911736009) 陕西省教育厅2019年度专项科学研究计划资助项目(19JK0430)
摘 要:采用直流磁控溅射镀膜技术以高纯铝为靶材,氧气为反应气体,在304不锈钢基底上以不同溅射功率(60,90,120,150和180 W)沉积Al2O3薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜晶体结构和表面形貌进行分析表征,使用电化学工作站考察Al2O3薄膜的耐蚀性能。结果表明:所制备的Al2O3薄膜表面平整、均匀致密,并且在(217)面具有较好的择优取向;溅射功率对薄膜耐蚀性有较大影响,随溅射功率增加,耐蚀性先增强后减弱,在功率为150 W时所制备薄膜的耐蚀性能最优。