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金刚石薄膜生长过程中反应基团的空间分布研究

作     者:崔景彪 方容川 

作者机构:中国科学技术大学物理系结构分析开放实验室合肥230026 

出 版 物:《科学通报》 (Chinese Science Bulletin)

年 卷 期:1996年第41卷第13期

页      面:1178-1180页

核心收录:

学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

基  金:国家"八六三"高技术发展计划资助项目 

主  题:金刚石 薄膜 反应基团 空间分布 生长 

摘      要:在众多金刚石薄膜生长的方法中,热灯丝法是其中重要的一种。为了研究其生长机理,人们使用了多种原位测量反应基团的方法,如质量谱、红外吸收、紫外吸收等,对基团的种类、作用及气相如何转变为固相进行了研究,并得到一些重要的结果。但是所有这些方法都没有能给出有关反应基团的空间分布的信息。由于在反应区域中存在三场,即质量场、流量场和温度场,因此反应基团在空间上的分布是极不均匀的。为了弄清反应基团的作用,必须进一步研究反应基团的空间分布,特别是衬底表面附近的分布。本文将原位光发射谱方法应用于电子增强的热丝法生长金刚石薄膜的生长过程,并实现了空间分辨探测,给出有关反应基团在空间分布上的信息,发现衬底表面附近的基团分布与其他区域是截然不同的。

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