用于高灵敏度红外探测器的超薄硅膜的研制

作     者：董典红 徐晨 邹德恕 李兰 杨道虹 张剑铭 阳启明 沈光地 DONG Dian-hong;XU Chen;ZOU De-shu;LI Lan;YANG Dao-hong;ZhANG Jian-ming;YANG Qi-ming;SHEN Guang-di

作者机构：北京工业大学电子与信息控制工程学院北京市光电子技术实验室北京100022 

出 版 物：《红外与激光工程》 (Infrared and Laser Engineering)

年 卷 期：2005年第34卷第1期

页      面：23-26页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：北京市教委科技发展项目(KM200310005009) 

主　　题：超薄硅膜 各向异性腐蚀 高灵敏度红外探测器 

摘      要：超薄、平整的硅膜对于制作高灵敏度红外探测器是非常重要的。这种超薄硅膜的各向异性腐蚀技术,包括有机溶液EPW和无机溶液KOH及KOH+IPA(异丙醇)。从腐蚀速率、腐蚀表面质量、腐蚀停特性、腐蚀边缘形貌及腐蚀工艺的角度分析比较了两种腐蚀系统,分别制作出了约1μm厚的平整超薄硅膜,并研究了不同掩膜材料在腐蚀液中的抗蚀性,为高灵敏度红外探测器的制作奠定了工艺基础。