氧化沟工艺在电子工业园区污水处理厂中的应用
Application of the oxidation ditch process in the electronic industrial park wastewater treatment plant作者机构：中国市政工程中南设计研究总院重庆分院重庆400047
出 版 物：《给水排水》 (Water & Wastewater Engineering)
年 卷 期：2011年第37卷第1期
页 面：22-26页
核心收录：
学科分类：12[管理学] 1204[管理学-公共管理] 08[工学] 081303[工学-城市规划与设计(含：风景园林规划与设计）] 0813[工学-建筑学] 0833[工学-城乡规划学] 083302[工学-城乡规划与设计]
主 题：工业园区 污水处理厂 奥贝尔氧化沟 工艺流程 重金属
摘 要：重庆市西永微电子工业园区污水处理厂近期建设规模为3万m3/d,以处理微电子工业园区内的工业废水为主要任务。污水处理主体工艺采用强化预处理+奥贝尔(Orbal)氧化沟工艺。详细介绍了其工艺流程、主要构筑物的特点及设计参数,并总结了微电子工业园区污水处理厂设计特点。
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