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非晶金刚石薄膜的制备及其性能研究

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作     者:赵建平 王曦 陈智颖 杨石奇 柳襄怀 施天生 

作者机构:中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室 

出 版 物:《功能材料与器件学报》 (Journal of Functional Materials and Devices)

年 卷 期:1997年第3卷第1期

页      面:67-71页

学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 

基  金:国家自然科学基金 

主  题:FAD 非晶金刚石 薄膜 弧源沉积 

摘      要:本文利用一种新的等离子体沉积技术—真空磁过滤弧沉积(FAD)制备得到一种无氢的非晶碳膜。EELS分析表明,这种非晶碳膜几乎不含有sp2和sp杂化键,呈现出高度的金刚石特征,以致可以被称为非晶金刚石(aD)膜。应用紫外透射光谱(UV)、红外反射光谱以及椭偏测量等方法对aD膜的光学性能进行了测量。利用显微力学探针、X射线双晶衍射、卢瑟福背散射(RBS)技术和EELS分析等多种测量手段对aD的超显微硬度、应力以及密度等力学和结构特性进行了定量分析。另外,对这种aD膜的场电子发射性能也进行了研究。

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