咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >半固化片浸渍加工技术的新进展 收藏

半固化片浸渍加工技术的新进展

作     者:祝大同 

出 版 物:《覆铜板资讯》 (Copper Clad Laminate Information)

年 卷 期:2006年第4期

页      面:8-14页

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 081702[工学-化学工艺] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主  题:半固化片 加工技术 浸渍 印制电路板 高密度互连 覆铜板 加工设备 加工质量 质量问题 可靠性 

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分