非晶态碲镉汞薄膜晶化过程的椭圆偏振光谱研究(英文)
Characterization of the Crystallization of Amorphous Hg_(0.2)Cd_(0.8)Te Using Spectroscopic Ellipsometry作者机构：昆明物理研究所云南昆明650223 中国兵器科学研究院北京100089
出 版 物：《红外技术》 (Infrared Technology)
年 卷 期：2012年第34卷第4期
页 面：187-190页
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：Project supported by the National Natural Science Foundation of China(No.60576069)
摘 要：采用椭圆偏振光谱技术研究了非晶态碲镉汞薄膜在不同退火条件下的结构性能。结果表明非晶态碲镉汞薄膜在退火过程中的成核晶化是在薄膜内部均匀发生的,对于不同晶化程度的薄膜,其光学常数谱具有明显的特征,通过对光学常数谱的分析研究可以对非晶态碲镉汞薄膜的晶化程度进行量化表征,从而控制退火条件,优化材料质量。
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