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铝合金上铈氧化膜形成的电化学研究

Electrochemical Study of Formation of Cerium OxideFilm on LC4 Aluminium Alloy

作     者:陈根香 曹经倩 吴纯素 

作者机构:南昌航空工业学院 

出 版 物:《材料保护》 (Materials Protection)

年 卷 期:1995年第28卷第3期

页      面:1-3页

核心收录:

学科分类:081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

基  金:航空科学基金 

主  题:铝合金 氧化膜 耐蚀性  电化学 镀合金 

摘      要:研究了LC4铝合金在静置的、充氧或充氮的CeCl_3(0.1%)/NaCl(0.1mol/L)溶液中长时间浸泡形成的铈氧化物膜。在0.1mol/LNaCl中测得的极化数据表明,自上述三种浸泡体系所形成的铈氧化物膜在对铝合金的抗腐蚀特性上没有差别,这种膜是合金表面先前存在的自然铝氧化膜直接转化而成的,浸泡溶液中的溶解氧对成膜速度并无贡献。提出了膜的形成机理。

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