二次发射微波电子枪的倍增特性
Multiplication effect of the secondary emission microwave electron gun作者机构：中国科学技术大学国家同步辐射实验室安徽合肥230029
出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)
年 卷 期：2004年第16卷第11期
页 面：1477-1480页
核心收录：
学科分类：0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 082701[工学-核能科学与工程] 0827[工学-核科学与技术] 0702[理学-物理学]
基 金：中科院创新工程资助课题
摘 要： 利用3DRun程序通过数值模拟计算,对二次发射微波电子枪的束流倍增特性作了研究。用1维模型计算了束流倍增与腔两极间距离以及腔中场强的关系,并详细给出了腔两极间距离为10mm,场强为5 4MV/m时出射电子纵向聚束及能量聚焦过程;利用3DRun程序研究了在高频场及粒子束本身空间电荷场的共同作用下,束流在3维运动过程中的倍增特性,计算了出射束流的发射度。通过计算表明:二次发射微波电子枪可以提供低发射度、高流强的电子束。
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