基于高迁移率透明导电氧化物的高速、低插入损耗硅基光波导移相器研究

作     者：聂立霞 张燕 鲜仕林 秦俊 王会丽 毕磊 Nie Lixia;Zhang Yan;Xian Shilin;Qinjun;Wang Huili;Bi Lei

作者机构：电子科技大学国家电磁辐射控制材料工程技术研究中心四川成都611731 电子科技大学电子科学与工程学院四川成都611731 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2019年第56卷第15期

页      面：188-196页

核心收录：

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金面上项目(61475031) 国家自然科学基金优青项目(51522204) 科技部重点研发计划(2016YFA0300802) 

主　　题：光学器件 移相器 电光效应 透明导电氧化物 

摘      要：硅基光波导移相器是硅基光电子系统的重要组成部分。透明导电氧化物(TCO)薄膜的介电常数受栅极电压作用会产生调谐,有望应用于下一代高速、低插入损耗且兼容CMOS的硅基光波导移相器中。TCO较高的光吸收系数限制了其在移相器中的应用。提出了一种基于高迁移率的透明导电氧化物的低插入损耗硅基光波导移相器,并证明了TCO材料迁移率与其损耗密切相关。通过理论计算和数值仿真,设计了一种基于高迁移率氧化镉(CdO)材料(μ=300cm^2·V^-1·s^-1)的硅基光波导移相器。所得器件在1550nm波长实现π相移时,器件长度为127μm,插入损耗为1.4dB,调制带宽可达到300GHz。为发展高速硅基光波导移相器件提供了新思路。