不同衬底温度下ZnO外延薄膜的结构及光学特性分析

作     者：张子生 尹志会 许贺菊 贾亮 于威 傅广生 ZHANG Zi-sheng;YIN Zhi-hui;XU He-ju;JIA Liang;YU Wei;FU Guang-sheng

作者机构：河北大学物理科学与技术学院保定071002 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2006年第35卷第5期

页      面：1118-1122页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：河北省自然科学基金(No.E2006001006) 

主　　题：ZnO薄膜 衬底温度 螺旋波等离子体 外延 

摘      要：采用螺旋波等离子体辅助射频溅射沉积技术在A l2O3(0001)衬底上沉积ZnO外延薄膜,通过对其结构及光学性质的分析,探讨了衬底温度对薄膜生长特性的影响。实验结果表明,由于等离子体对反应气体的活化及载能粒子对表面反应的辅助作用,采用该等离子体辅助溅射技术能够在较低的衬底温度下实现较高质量的ZnO薄膜外延生长,然而,较高的衬底温度所引起的表面反应不利于薄膜中的氧空位及锌填隙等缺陷的减少,这将限制薄膜的外延质量及光学特性的进一步提高。