电阻热蒸发镀膜与电子束蒸发镀膜对纳米球刻蚀方法制备二维银纳米阵列结构的影响

作     者：罗银燕 朱贤方 Luo Yin-Yan Zhu Xian-Fang (Department of Physics,Xiamen University,Xiamen 361005,China) (Received 16 August 2010;revised manuscript received 25 February 2011)

作者机构：厦门大学物理系厦门361005 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2011年第60卷第8期

页      面：485-490页

核心收录：

学科分类：07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学] 

基　　金：科学技术部国际科技合作计划(批准号:2008DFA51230) 国家重点基础研究发展计划(批准号:2007CB936603) 国家自然科学基金(批准号:60776007 11074207)资助的课题~~ 

主　　题：银纳米阵列 电阻热蒸发 电子束蒸发 纳米球刻蚀 

摘      要：在使用纳米球刻蚀法制备二维银纳米点阵的过程中,使用不同的镀膜方法在同样的模板上得到了不同形貌的银纳米阵列结构.使用电阻热蒸发镀膜方法获得了六角排列的银纳米三角形阵列结构,使用电子束蒸发镀膜方法则获得了六角排列的银纳米环阵列结构.研究表明,沉积纳米粒子的粒径、表面纳米曲率效应和热能是形成不同结构形貌的纳米阵列结构的关键因素.